特許
J-GLOBAL ID：200903073974890960

スルホニウム塩及びその用途

発明者：
釜淵 明

釜淵 明 について

, 
荒木 香

荒木 香 について


出願人/特許権者：
住友化学工業株式会社

住友化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 久保山 隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-347574
公開番号（公開出願番号）：特開2003-231673
出願日： 2002年11月29日
公開日（公表日）： 2003年08月19日
要約：
【要約】【課題】新規なスルホニウム塩を提供するとともに、これと樹脂成分とを含有し、ArFやKrFなどのエキシマレーザーリソグラフィに適し、感度とレジスト形状とのバランスがよい化学増幅型のポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】(1)下式(I)で示されるスルホニウム塩。(式中、Q1、Q2及びQ3は、3つが同一であることはなく、互いに独立に、水素、水酸基、炭素数1〜6のアルキル基、又は炭素数1〜6のアルコキシ基を表す。Q4、Q5は、互いに独立に炭素数1〜8のパーフルオロアルキル基を表す。)(2)酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自身はアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリ水溶液に可溶となる樹脂と、前記(1)に記載のスルホニウム塩とを含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。(3)式(I)記載の化合物と増感剤を含有する重合開始剤組成物。
請求項（抜粋）：
下式(I)で示されるスルホニウム塩。(式中、Q1、Q2及びQ3は、3つが同一であることはなく、互いに独立に、水素、水酸基、炭素数1〜6のアルキル基、又は炭素数1〜6のアルコキシ基を表す。Q4、Q5は、互いに独立に炭素数1〜8のパーフルオロアルキル基を表す。)
IPC (7件)：
C07C381/12 ,  C07C311/48 ,  C08F 20/12 ,  C08F 20/28 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (7件)：
C07C381/12 ,  C07C311/48 ,  C08F 20/12 ,  C08F 20/28 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (28件)：
2H025AA01 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB40 ,  4H006AB78 ,  4H006TN50 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA11Q ,  4J100BA15Q ,  4J100BC07P ,  4J100BC07Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC53Q ,  4J100JA37 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (3件)

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