ポジ型レジスト組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小栗昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-149620
公開番号（公開出願番号）：特開2002-341539
出願日： 2001年05月18日
公開日（公表日）： 2002年11月27日
要約：

【要約】【課題】遠紫外光、特にArFエキシマレーザー光を使用したミクロフォトファブリケーションに於いて好適に使用することができる、解像力、露光マージンの優れたポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】(A)脂肪族環状炭化水素基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する特定の樹脂、及び(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)脂肪族環状炭化水素基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物において、(A)の樹脂が、下記一般式(I)で表される繰返し構造単位、一般式(II)で表される繰返し構造単位、及び一般式(III)で表される繰返し構造単位を有する樹脂であり、(B)の化合物が、下記一般式(Ia)又は一般式(IIb)で表される化合物であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】式(I)中:R11',R12'は、各々独立に、水素原子、シアノ基、ハロゲン原子、又はアルキル基を表す。Z'は、結合した2つの炭素原子(C-C)を含み、置換基を有していてもよい脂環式構造を形成するための原子団を表す。【化2】一般式(II)中:Z2は、-O-又は-N(R41)-を表す。ここでR41は、水素原子、水酸基、アルキル基、ハロアルキル基、又は-OSO2-R42を表す。R42は、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基又は樟脳残基を表す。【化3】一般式(III)中:R91は、水素原子、低級アルキル基、ハロゲン原子又は-CNを表す。X5は、-O-、-S-、-NR93-、又は-NR93SO2-を表す。R93は、水素原子、鎖状又は環状アルキル基を表す。Bは、単結合または連結基を表す。R92は、水素原子、鎖状又は環状アルキル基、アルコキシ基、水酸基、カルボキシ基、シアノ基、-COOR94、又は下記一般式(IV)〜(X)のいずれかで表される基を表す。R94は、水素原子、または鎖状又は環状アルキル基を表す。【化4】-N+(R95)(R96)(R97)・X- (VIII)-R98-A50-R99 (IX)-SO3R100 (X)式(IV)において、Ra1、Rb1、Rc1、Rd1、及びRe1は、各々独立に、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を表す。m、nは各々独立に0〜3の整数を表し、m+nは、2以上6以下である。式(V-1)〜(V-4)において、R1b〜R5bは、各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又はアルケニル基を表す。R1b〜R5bの内の2つは、結合して環を形成してもよい。式(VII)において、R1d〜R8dは、各々独立に、水素原子又はアルキル基を表す。Rd0は、水素原子、鎖状または環状アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。mは、1〜10の整数を表す。式(VIII)中、R95〜R97は、各々独立に、水素原子、鎖状または環状アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。但し、R95〜R97は互いに結合して非芳香環、芳香環を形成しても良い。X-は、R-SO3-を表す。Rは脂肪族炭化水素基又は芳香族炭化水素基を表す。式(IX)中、R98は、単結合、アルキレン基、アリーレン基、又はこれらを組み合わせた2価の基を表す。A50は、下記に示す官能基のいずれかを表す。【化5】R99は、水素原子またはアルキル基を表す。式(X)中、R100は、鎖状又は環状アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。【化6】(上記式中、R1〜R5は、各々独立に、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基又は芳香族炭化水素基を表す。但し、R1〜R3の内の2個は、互いに結合して環を形成してもよく、また、R4とR5とは、互いに結合して環を形成してもよい。X-は、下記のアニオンのいずれかを表す。)【化7】(上記式中、R6〜R10は、各々独立に、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基を表す。但し、R6とR7とは、互いに結合して環を形成してもよく、また、R8〜R10の内の2個は、互いに結合して環を形成してもよい。)

IPC (12件)：

G03F 7/039 601 , C08F220/10 , C08F232/00 , C08F234/00 , C08K 5/16 , C08K 5/34 , C08K 5/36 , C08L 33/04 , C08L 45/00 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 504 , H01L 21/027

FI (12件)：

G03F 7/039 601 , C08F220/10 , C08F232/00 , C08F234/00 , C08K 5/16 , C08K 5/34 , C08K 5/36 , C08L 33/04 , C08L 45/00 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 504 , H01L 21/30 502 R

Fターム (89件)：

2H025AA00 , 2H025AA02 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BG00 , 2H025CC04 , 2H025CC20 , 2H025FA03 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 4J002BG041 , 4J002BG051 , 4J002BG071 , 4J002BG131 , 4J002BH021 , 4J002BK001 , 4J002ER027 , 4J002EU027 , 4J002EU047 , 4J002EU077 , 4J002EU097 , 4J002EU127 , 4J002EU137 , 4J002EU147 , 4J002EU186 , 4J002EU207 , 4J002EU216 , 4J002EU237 , 4J002EV216 , 4J002EV236 , 4J002EV266 , 4J002EV296 , 4J002EV306 , 4J002FD206 , 4J002FD207 , 4J002GP03 , 4J100AJ02T , 4J100AK32Q , 4J100AL04R , 4J100AL08R , 4J100AL08S , 4J100AL08T , 4J100AM47Q , 4J100AM47T , 4J100AR09P , 4J100AR11P , 4J100BA02P , 4J100BA02R , 4J100BA02T , 4J100BA03P , 4J100BA03Q , 4J100BA03S , 4J100BA04P , 4J100BA05P , 4J100BA06P , 4J100BA11P , 4J100BA11Q , 4J100BA11S , 4J100BA11T , 4J100BA15P , 4J100BA15S , 4J100BA15T , 4J100BA16P , 4J100BA32T , 4J100BA34P , 4J100BA40P , 4J100BA40T , 4J100BA55Q , 4J100BA55T , 4J100BA58P , 4J100BA58T , 4J100BB07Q , 4J100BC04P , 4J100BC07P , 4J100BC07Q , 4J100BC07T , 4J100BC08T , 4J100BC09P , 4J100BC09S , 4J100BC12P , 4J100BC23T , 4J100BC53P , 4J100BC53S , 4J100CA03 , 4J100CA06 , 4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (6件)

ポジ型感光性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-132291 出願人：富士写真フイルム株式会社
感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-128516 出願人：ジェイエスアール株式会社
フォトレジスト製造用の感光性組成物
公報種別：公表公報出願番号：特願2002-502523 出願人：ロディア・シミ

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