特許
J-GLOBAL ID：200903073994913045

検査システム

発明者：
上野 剛渡

上野 剛渡 について

, 
吉武 康裕

吉武 康裕 について


出願人/特許権者：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

株式会社日立ハイテクノロジーズ について


代理人 (1件)： 筒井 大和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-258664
公開番号（公開出願番号）：特開2007-071678
出願日： 2005年09月07日
公開日（公表日）： 2007年03月22日
要約：
【課題】 検査条件設定を比較的短時間にかつ容易に行うことができ、また、サンプルがない場合にも検査条件設定の検討を可能にし、さらに、検査条件と欠陥信号強度を検査条件設定者に提供して検査条件設定を支援することができる検査システムを提供する。【解決手段】 検査システムにおいて、検査画像である欠陥画像とその参照画像、欠陥画像及び参照画像の不一致分を欠陥信号強度として数値化して、検査条件に関連付けて蓄積し、設定した範囲の検査条件を全て評価完了するまで検査条件を変更して蓄積作業を繰返しながら評価を繰返す。全て評価完了し、検査対象としたい欠陥が複数ある場合には欠陥種類数分作業を繰返し、蓄積された欠陥信号強度の大きい条件及び検査条件項目分布を検査条件レシピとして自動的にレシピファイルを出力して検査条件設定作業者に提供する。そして、基板上のパターン欠陥や異物の欠陥を検出する外観検査を行う。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板上に本来同一形状となるように形成された2つのパターンの対応する領域を撮像して得た参照画像と検査画像とを用いてパターン欠陥や異物の欠陥を検出する検査システムであって、 欠陥を含む検査画像とその参照画像とを検査条件に関連付けて蓄積し、上記検査画像及び参照画像の不一致分を欠陥信号強度として数値化して検査条件に関連付けて蓄積し、設定した範囲の検査条件を全て評価完了するまで検査条件を変更して上記2つの蓄積作業を繰返し、蓄積された欠陥信号強度の最も大きい条件を検査条件レシピとして自動的にレシピファイルを出力する手段を有することを特徴とする検査システム。
IPC (4件)：
G01N 21/956 ,  G03F 1/08 ,  H01L 21/66 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G01N21/956 A ,  G03F1/08 S ,  H01L21/66 J ,  H01L21/30 502V
Fターム (24件)：
2G051AA51 ,  2G051AA56 ,  2G051AA73 ,  2G051AB02 ,  2G051CA04 ,  2G051EA08 ,  2G051EA11 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G051EB01 ,  2G051EB09 ,  2H095BD04 ,  2H095BD05 ,  2H095BD27 ,  2H095BD28 ,  4M106AA01 ,  4M106CA39 ,  4M106CA41 ,  4M106DJ11 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ20 ,  4M106DJ21 ,  4M106DJ23 ,  4M106DJ38
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (8件)
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