基板処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉田茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-018635
公開番号（公開出願番号）：特開2000-223547
出願日： 1999年01月27日
公開日（公表日）： 2000年08月11日
要約：

【要約】【課題】搬送ロボットの周囲に基板収容部、位置決め部、処理部、冷却部を配置すると、基板処理装置が大型化するとともに搬送ロボットの動作の負担が大きくなる。【解決手段】搬送ロボット150の周囲に位置決め部130、処理部160および冷却部140を配置し、基板9をキャリア91に収容する基板収容部110と位置決め部130および冷却部140との間に受渡ロボット120を設ける。これにより、搬送ロボット150の動作負担を軽減することができる。また、基板収容部110、受渡ロボット120、位置決め部130および冷却部140、搬送ロボット150、並びに、処理部160をほぼ一直線上に配置することにより、デッドスペースの少ない配置とすることができ、基板処理装置100の小型化を図ることができる。

請求項（抜粋）：

基板に処理を施す基板処理装置であって、基板を収容する収容部と、前記収容部に対して基板を出し入れする第1搬送手段と、搬入される基板に対して処理を施す処理部と、前記処理部に対して基板を出し入れする第2搬送手段と、前記第1搬送手段と前記第2搬送手段との間に位置し、前記収容部から前記処理部へと搬送される基板が一時的に載置される第1載置部と、前記第1搬送手段と前記第2搬送手段との間であって前記第1載置部とは異なる位置に位置し、前記処理部から前記収容部へと搬送される基板が一時的に載置される第2載置部と、を備えることを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/68 , H01L 21/205

FI (2件)：

H01L 21/68 A , H01L 21/205

Fターム (24件)：

5F031CA02 , 5F031CA05 , 5F031FA01 , 5F031FA02 , 5F031FA11 , 5F031FA12 , 5F031FA15 , 5F031GA44 , 5F031GA50 , 5F031MA04 , 5F031MA21 , 5F031MA28 , 5F031MA30 , 5F031NA04 , 5F031NA09 , 5F031PA09 , 5F031PA30 , 5F045BB08 , 5F045BB10 , 5F045EB08 , 5F045EJ02 , 5F045EM01 , 5F045EM10 , 5F045EN04

引用特許：

審査官引用 (6件)

真空処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-242911 出願人：株式会社日立製作所
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-306885 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
特開平3-273606

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