プラズマ発生装置及びワーク処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：小谷悦司 , 伊藤孝夫 , 樋口次郎 , 平田晴洋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-046357
公開番号（公開出願番号）：特開2007-227123
出願日： 2006年02月23日
公開日（公表日）： 2007年09月06日
要約：

【課題】簡便な構成により複数のプラズマ発生ノズルのうちいずれかのプラズマ発生ノズルの状態を精度良く監視する。【解決手段】マイクロ波発生装置20により発生されたマイクロ波を伝搬する導波管10と、マイクロ波を受信し、受信したマイクロ波のエネルギーに基に、処理ガス供給源921から供給されるガスをプラズマ化して放出するプラズマ発生ノズル31が導波管10に複数個配列して取り付けられたプラズマ発生部30と、プラズマ発生ノズル31から放出されたプルームの画像を撮影する撮影部100と、撮影部100により撮影されたプルームの画像を基に、複数個配列されたプラズマ発生ノズル31のうち、正常な状態のプラズマを放出することができない欠陥ノズルを検出する欠陥ノズル検出部941とを備える。【選択図】図10

請求項（抜粋）：

マイクロ波を発生するマイクロ波発生部と、前記マイクロ波発生部により発生されたマイクロ波を伝搬する導波管と、プラズマ化されるガスを供給するガス供給部と、前記マイクロ波を受信し、受信したマイクロ波のエネルギーを基に、前記ガス供給部から供給されるガスをプラズマ化して放出するプラズマ発生ノズルが前記導波管に複数個配列して取り付けられたプラズマ発生部と、前記プラズマ発生ノズルから放出されるプラズマ化されたガスからなるプルームの画像を撮影する撮影部と、前記撮影部により撮影されたプルームの画像を表示する状態監視部とを備えることを特徴とするプラズマ発生装置。

IPC (6件)：

H05H 1/00 , H05H 1/24 , H01L 21/306 , H01L 21/205 , C23C 16/511 , H01L 21/304

FI (6件)：

H05H1/00 A , H05H1/24 , H01L21/302 101E , H01L21/205 , C23C16/511 , H01L21/304 645C

Fターム (27件)：

4K030CA04 , 4K030CA06 , 4K030FA01 , 4K030GA12 , 4K030JA09 , 4K030KA30 , 4K030KA39 , 4K030LA15 , 4K030LA18 , 5F004AA01 , 5F004AA14 , 5F004BA20 , 5F004BB14 , 5F004BB24 , 5F004BB28 , 5F004BB29 , 5F004CB09 , 5F004CB12 , 5F004CB20 , 5F045AA09 , 5F045BB01 , 5F045EH03 , 5F045EH19 , 5F045GB01 , 5F045GB04 , 5F045GB05 , 5F045GB08

引用特許：

出願人引用 (1件)

特開昭62-228482号公報

審査官引用 (8件)

半導体基板アッシング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-158279 出願人：九州日本電気株式会社
プラズマ加工装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-029633 出願人：コマツ産機株式会社
プラズマ制御方法、及びプラズマ制御装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-345672 出願人：国立大学法人東北大学

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