特許
J-GLOBAL ID：200903074446987088
液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-008538
公開番号（公開出願番号）：特開2007-192876
出願日： 2006年01月17日
公開日（公表日）： 2007年08月02日
要約：
【課題】浸漬露光時の物質溶出の抑制とリソグラフィー特性とを両立できる液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】酸解離性溶解抑制基を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含み、樹脂成分(A)が、主鎖環状型重合体(A1)と、アクリル酸から誘導される構成単位(a)を主鎖に有する非主鎖環状型重合体(A2)とを含有し、非主鎖環状型重合体(A2)が、下記一般式(p1)[Yは低級アルキル基または脂肪族環式基を表す。]で表される酸解離性溶解抑制基(p1)を有するアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)を有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸解離性溶解抑制基を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含む液浸露光用ポジ型レジスト組成物であって、
前記樹脂成分(A)が、主鎖環状型重合体(A1)と、アクリル酸から誘導される構成単位(a)を主鎖に有する非主鎖環状型重合体(A2)とを含有し、
前記非主鎖環状型重合体(A2)が、下記一般式(p1)で表される酸解離性溶解抑制基(p1)を有するアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)を有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/039
, H01L 21/027
, G03F 7/033
, C08F 32/00
G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
, H01L21/30 515D
, G03F7/033
, C08F32/00
2H025AA00
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB08
, 2H025CB14
, 2H025CB45
, 2H025CC20
, 2H025FA17
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100AL08R
, 4J100AR09P
, 4J100AR09Q
, 4J100AR09R
, 4J100BA02R
, 4J100BA03Q
, 4J100BA03R
, 4J100BA11P
, 4J100BA11Q
, 4J100BA15P
, 4J100BA15Q
, 4J100BB11R
, 4J100BC02P
, 4J100BC03P
, 4J100BC04P
, 4J100BC07R
, 4J100BC09Q
, 4J100BC53P
, 4J100BC53Q
, 4J100CA04
, 4J100CA05
, 4J100CA06
, 4J100JA39
, 5F046CB01
