特許
J-GLOBAL ID：200903006381144090

液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者：
稲部 陽樹

稲部 陽樹 について

, 
漢那 慎一

漢那 慎一 について

, 
神田 博美

神田 博美 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (4件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-057634
公開番号（公開出願番号）：特開2006-243264
出願日： 2005年03月02日
公開日（公表日）： 2006年09月14日
要約：
【課題】 液浸露光に適用した場合に、ドライ露光時に比較して感度の劣化が小さく、液浸液への酸の溶出が極めて少ない液浸露光に好適なレジストを提供する。【解決手段】 (A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有しており、かつ基板上に塗膜を形成した際の純水に対する静的接触角が72°以上であり、アルカリ現像液に対する静的接触角が70°以下であることを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
(A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有しており、かつ基板上に塗膜を形成した際の純水に対する静的接触角が72°以上であり、アルカリ現像液に対する静的接触角が70°以下であることを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。
IPC (2件)：
G03F 7/039 ,  H01L 21/027
FI (2件)：
G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (10件)：
2H025AA01 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025EA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 国際公開2004-068242A1号パンフレット
審査官引用 (7件)
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