特許
J-GLOBAL ID：200903074462206193
結晶解析装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
吉田 茂明
, 吉竹 英俊
, 有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-087417
公開番号（公開出願番号）：特開2004-294282
出願日： 2003年03月27日
公開日（公表日）： 2004年10月21日
要約：
【課題】三次元の結晶解析を実行し得る結晶解析装置を得る。【解決手段】電子ビームB2によって測定面S1を走査し、測定面S1内の各ピクセルに関して、検出部6による電子線後方散乱回折パターンの検出、及び、データ処理部9によるデータD1の解析を行うことにより、測定面S1に関する結晶方位の二次元分布データK1が得られる。次に、イオンビームB1の照射によって試料11をスライス加工することにより、測定面S1から所定距離Lだけ内側に、次の測定面S2を作成する。その後、測定面S2に関する結晶方位の二次元分布データK2が得られる。以上の操作を繰り返し実行することにより、測定面S3〜Snに関する結晶方位の二次元分布データK3〜Knが順次に得られる。次に、データ処理部9は、二次元分布データK1〜Knをこの順に積層することにより、結晶方位の三次元分布データQを構築する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
試料にイオンビームを照射することによって、前記試料に複数の断面を順次に作成するイオンビーム照射部と、
前記複数の断面の各々に関して電子ビームを照射する電子ビーム照射部と、
前記複数の断面の各々に関して、前記電子ビームの照射に起因して前記試料から発生する電子線後方散乱回折パターンを検出する検出部と、
前記検出部による検出の結果に基づいて、前記試料の結晶方位の分布に関する三次元データを構築するデータ処理部と、
前記三次元データ内に任意の断面を規定し、前記任意の断面に関して結晶解析を行う解析部と
を備える結晶解析装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (13件)：
2G001AA03
, 2G001AA05
, 2G001BA06
, 2G001BA18
, 2G001CA03
, 2G001GA01
, 2G001GA06
, 2G001GA08
, 2G001GA13
, 2G001KA08
, 2G001KA10
, 2G001KA12
, 2G001RA04
審査官引用 (1件)
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電子情報通信学会2003年総合大会講演論文集 エレクトロニクス2 PROCEEDINGS OF THE 2003 IEICE GENE
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