特許
J-GLOBAL ID：200903074577278503

転写原型及びそれを用いたベースフィルム、転写フィルム、並びに拡散反射板

発明者：
嶋崎 俊勝

嶋崎 俊勝 について

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吉田 健

吉田 健 について

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鶴岡 恭生

鶴岡 恭生 について

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高根 信明

高根 信明 について

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木沢 桂子

木沢 桂子 について


出願人/特許権者：
日立化成工業株式会社

日立化成工業株式会社 について


代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-310442
公開番号（公開出願番号）：特開2001-121548
出願日： 1999年10月29日
公開日（公表日）： 2001年05月08日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 耐久性の良い転写原型、及びそれを用いたベースフィルム、転写フィルム、並びに拡散反射板を提供する。【解決手段】 成型用母型の表面に、1種類以上の形状の隣接して並んだ穴または一部が重なった穴をダイヤモンドバイトを用いた機械加工等により、容易に製造することができる。また、その転写原型を粗化することにより、穴上にランダムに粗化された形状またはレベリングされた形状を有する転写原型を製造することができる。これらの形状を被転写フィルムに転写してベースフィルムとし、これに反射膜を形成することにより拡散反射板とすることができる。また、前記方法で作製したベースフィルムを仮支持体としてベースフィルム上に薄膜層を積層して転写フィルムとし、永久基板に薄膜層の仮支持体に積層されていない面を面するように押し当てて仮支持体を剥がし薄膜層に反射膜を形成することにより拡散反射板とすることができる。
請求項（抜粋）：
成型用母型の表面に、1種類以上の形状の隣接して並んだ穴または一部が重なった穴を形成することを特徴とする転写原型。
IPC (3件)：
B29C 33/38 ,  B32B 27/00 ,  B29L 11:00
FI (3件)：
B29C 33/38 ,  B32B 27/00 N ,  B29L 11:00
Fターム (36件)：
4F100AB10 ,  4F100AG00A ,  4F100AJ06 ,  4F100AK01D ,  4F100AK12 ,  4F100AK23 ,  4F100AK25 ,  4F100AK25J ,  4F100AK42 ,  4F100AL01 ,  4F100AR00B ,  4F100AR00D ,  4F100BA03 ,  4F100BA04 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100BA10D ,  4F100DD07 ,  4F100EC04 ,  4F100EJ65D ,  4F100EJ91D ,  4F100GB41 ,  4F100JB14D ,  4F100JK09 ,  4F100JL00 ,  4F100JM01B ,  4F100JN06C ,  4F202AC03 ,  4F202AH75 ,  4F202AJ09 ,  4F202CA27 ,  4F202CB01 ,  4F202CD18 ,  4F202CD22 ,  4F202CK11
引用特許：
審査官引用 (10件)
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