特許
J-GLOBAL ID:200903074617059575

光触媒の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高橋 祥泰 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-189223
公開番号(公開出願番号):特開2000-015112
出願日: 1998年07月03日
公開日(公表日): 2000年01月18日
要約:
【要約】【課題】 多孔質基材に,光触媒成分を高分散にかつ小さな細孔の部分まで担持することのできる,触媒反応効率に優れた光触媒の製造方法を提供すること。【解決手段】 超臨界流体に光触媒成分3を形成するための光触媒前駆体を溶解させた前駆体流体を作製する溶解工程と,多孔質基材11に上記前駆体流体を接触させるコート工程とにより,上記多孔質基材11に光触媒成分3を担持してなる光触媒1を得る。
請求項(抜粋):
超臨界流体に光触媒成分を形成するための光触媒前駆体を溶解させた前駆体流体を作製する溶解工程と,多孔質基材に上記前駆体流体を接触させるコート工程とにより,上記多孔質基材に光触媒成分を担持してなる光触媒を得ることを特徴とする光触媒の製造方法。
IPC (3件):
B01J 35/02 ZAB ,  B01J 21/06 ,  B01J 37/02 301
FI (3件):
B01J 35/02 ZAB J ,  B01J 21/06 M ,  B01J 37/02 301 F
Fターム (17件):
4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA04B ,  4G069BA07B ,  4G069BA08B ,  4G069BA48A ,  4G069CA10 ,  4G069CA11 ,  4G069CA17 ,  4G069CC33 ,  4G069CC40 ,  4G069FA02 ,  4G069FB14 ,  4G069FB30 ,  4G069FB80 ,  4G069FC07 ,  4G069ZA11B
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (2件)

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