特許
J-GLOBAL ID：200903074846040136

膜

発明者：
渡辺 克之

渡辺 克之 について

, 
丹 史郎

丹 史郎 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-226833
公開番号（公開出願番号）：特開2006-100794
出願日： 2005年08月04日
公開日（公表日）： 2006年04月13日
要約：
【課題】 半導体集積回路装置における多層配線に用いられる低誘電率の絶縁膜として有用な膜を提供する。【解決手段】 特定の置換基を有するジアマンタンまたはアダマンタン化合物もしくは該化合物を含む組成物を化学気相蒸着することにより形成された膜。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
式(Ia)〜(Ic)のいずれかで表される化合物もしくは少なくとも式(Ia)〜(Ic)のいずれかで表される化合物を含む組成物を化学気相蒸着することにより形成された膜。
IPC (7件)：
H01L 21/312 ,  H01L 21/314 ,  H01L 21/768 ,  H01L 23/522 ,  C23C 16/505 ,  C23C 14/12 ,  C08G 83/00
FI (6件)：
H01L21/312 A ,  H01L21/314 A ,  H01L21/90 S ,  C23C16/505 ,  C23C14/12 ,  C08G83/00
Fターム (37件)：
4J031BA03 ,  4J031BB01 ,  4J031BB02 ,  4J031BC03 ,  4J031BC05 ,  4J031BD24 ,  4J031CA06 ,  4J031CA12 ,  4J031CA16 ,  4J031CA47 ,  4J031CA87 ,  4J031CA89 ,  4J031CE04 ,  4J031CE06 ,  4K029AA06 ,  4K029BA62 ,  4K029BD01 ,  4K029CA12 ,  4K030AA01 ,  4K030BA61 ,  4K030CA04 ,  4K030FA03 ,  4K030LA15 ,  5F033RR21 ,  5F033SS11 ,  5F033SS15 ,  5F033XX24 ,  5F058AA10 ,  5F058AC10 ,  5F058AD09 ,  5F058AF02 ,  5F058AH02 ,  5F058BA20 ,  5F058BC20 ,  5F058BD18 ,  5F058BF07 ,  5F058BJ02
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (3件)

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