特許
J-GLOBAL ID:200903074919001380
基板処理装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
梁瀬 右司
, 振角 正一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-223412
公開番号(公開出願番号):特開2006-041444
出願日: 2004年07月30日
公開日(公表日): 2006年02月09日
要約:
【課題】 基板を回転させながら基板に処理液を供給して該基板に対して所定の処理を施す基板処理装置において、基板中央部への処理液の付着を防止しながら、基板周縁部の処理幅を均一にして処理する。【解決手段】 基板Wの上面には、その平面サイズD1が基板サイズD2と同等以上の大きさである雰囲気遮断板9が対向して配設される。雰囲気遮断板9の周縁部にはノズル6が挿入可能な上下方向に貫通する貫通孔9eが形成されており、ノズル移動機構67によりノズル6を駆動することで、ノズル6を該貫通孔9eに挿入させて基板Wの上面周縁部TRに対向する対向位置P1と、雰囲気遮断板9から離れた退避位置P2とに位置決めすることができる。対向位置P1に位置決めされたノズル6から基板Wの上面周縁部TRに処理液が供給される。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
基板を回転させながら前記基板に処理液を供給して所定の処理を施す基板処理装置において、
前記基板を保持する基板保持手段と、
前記基板保持手段により保持された基板を回転させる回転手段と、
回転する前記基板の上面周縁部に前記処理液を供給するノズルと、
前記基板の上面に対向して配設されるとともに、その周縁部に前記ノズルが挿入可能な上下方向に貫通する貫通孔を有する遮断部材と、
前記ノズルを駆動することで前記ノズルを前記貫通孔に挿入させて前記基板の上面周縁部に対向する対向位置と、前記遮断部材から離れた退避位置とに位置決めさせるノズル駆動機構と
を備え、
前記対向位置に位置決めされた前記ノズルから前記基板の上面周縁部に処理液を供給することを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件):
H01L 21/306
, H01L 21/304
FI (2件):
H01L21/306 R
, H01L21/304 643A
Fターム (4件):
5F043EE07
, 5F043EE08
, 5F043EE40
, 5F043GG10
引用特許:
出願人引用 (5件)
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基板処理方法および基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-047855
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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半導体製造装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-330708
出願人:韓国ディエンエス株式会社
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基板処理装置及び基板処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-213078
出願人:株式会社荏原製作所
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基板処理装置及び基板処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-234836
出願人:東京エレクトロン株式会社
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基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-330404
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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審査官引用 (4件)