特許
J-GLOBAL ID：200903002186110240

基板処理装置及び基板処理方法

発明者：
斎藤 孝行

斎藤 孝行 について

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鈴木 作

鈴木 作 について

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山田 かおる

山田 かおる について

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伊藤 賢也

伊藤 賢也 について

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亀澤 正之

亀澤 正之 について

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山口 健二

山口 健二 について


出願人/特許権者：
株式会社荏原製作所

株式会社荏原製作所 について


代理人 (4件)： 渡邉 勇 ,  堀田 信太郎 ,  小杉 良二 ,  森 友宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-213078
公開番号（公開出願番号）：特開2004-055927
出願日： 2002年07月22日
公開日（公表日）： 2004年02月19日
要約：
【課題】処理液を飛散させることなく基板に供給することができ、これにより、チャンバー内の清浄雰囲気を維持することができると共に、処理液の使用量を減少させることができる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。【解決手段】基板Wを略水平に保持しつつ回転させる回転保持部11と、回転する基板Wの周縁部に、処理液が基板Wに対して静止するように該処理液を供給する処理液供給部15とを備えた。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
基板を略水平に保持しつつ回転させる回転保持部と、回転する基板の周縁部に、処理液が基板に対して静止するように該処理液を供給する処理液供給部とを備えたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
H01L21/306 ,  H01L21/304
FI (3件)：
H01L21/306 R ,  H01L21/304 643A ,  H01L21/306 F
Fターム (6件)：
5F043AA22 ,  5F043BB18 ,  5F043DD30 ,  5F043EE29 ,  5F043EE33 ,  5F043GG02
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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