特許
J-GLOBAL ID:200903074938969549
微細孔および/または微細溝を有する基材の孔埋めめっき方法
発明者:
,
,
,
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (1件):
小野 信夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-249456
公開番号(公開出願番号):特開2000-080496
出願日: 1998年09月03日
公開日(公表日): 2000年03月21日
要約:
【要約】【課題】 特別の電気的設備を必要とせず、簡単に、微細な溝あるいは孔に対し、ボイドの発生を防ぎながら効率よく銅めっきを行ない、基材上の配線溝を孔埋めする方法を開発すること。【解決手段】 微細孔および/または微細溝を有する基材上に、最初に低電流で短時間、例えば平均陰極電流密度0.03〜0.5A/dm2で10秒〜10分間めっきを行い、次いで電流を上げ、所定の膜厚までめっきすることを特徴とする微細孔および/または微細溝を有する基材の孔埋めめっき方法。
請求項(抜粋):
微細孔および/または微細溝を有する基材上に、最初に低電流で短時間のめっきを行い、次いで電流を上げ、所定の膜厚までめっきすることを特徴とする微細孔および/または微細溝を有する基材の孔埋めめっき方法。
IPC (3件):
C25D 5/18
, C25D 7/12
, H01L 21/288
FI (3件):
C25D 5/18
, C25D 7/12
, H01L 21/288 E
Fターム (13件):
4K024AA09
, 4K024AB19
, 4K024BA01
, 4K024BB11
, 4K024BC10
, 4K024CA06
, 4K024CA07
, 4K024CB05
, 4K024GA01
, 4K024GA04
, 4M104BB04
, 4M104BB08
, 4M104DD52
引用特許:
前のページに戻る