特許
J-GLOBAL ID:200903074938969549

微細孔および/または微細溝を有する基材の孔埋めめっき方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小野 信夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-249456
公開番号(公開出願番号):特開2000-080496
出願日: 1998年09月03日
公開日(公表日): 2000年03月21日
要約:
【要約】【課題】 特別の電気的設備を必要とせず、簡単に、微細な溝あるいは孔に対し、ボイドの発生を防ぎながら効率よく銅めっきを行ない、基材上の配線溝を孔埋めする方法を開発すること。【解決手段】 微細孔および/または微細溝を有する基材上に、最初に低電流で短時間、例えば平均陰極電流密度0.03〜0.5A/dm2で10秒〜10分間めっきを行い、次いで電流を上げ、所定の膜厚までめっきすることを特徴とする微細孔および/または微細溝を有する基材の孔埋めめっき方法。
請求項(抜粋):
微細孔および/または微細溝を有する基材上に、最初に低電流で短時間のめっきを行い、次いで電流を上げ、所定の膜厚までめっきすることを特徴とする微細孔および/または微細溝を有する基材の孔埋めめっき方法。
IPC (3件):
C25D 5/18 ,  C25D 7/12 ,  H01L 21/288
FI (3件):
C25D 5/18 ,  C25D 7/12 ,  H01L 21/288 E
Fターム (13件):
4K024AA09 ,  4K024AB19 ,  4K024BA01 ,  4K024BB11 ,  4K024BC10 ,  4K024CA06 ,  4K024CA07 ,  4K024CB05 ,  4K024GA01 ,  4K024GA04 ,  4M104BB04 ,  4M104BB08 ,  4M104DD52
引用特許:
審査官引用 (9件)
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