特許
J-GLOBAL ID:200903074940779579
バリア性フィルムの製造方法及び装置、並びにバリア性フィルム及びその基材
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
石川 泰男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-321696
公開番号(公開出願番号):特開2001-140079
出願日: 1999年11月11日
公開日(公表日): 2001年05月22日
要約:
【要約】【課題】 基材を走行させつつプラズマCVDを利用してバリア層を形成する場合の品質の安定性を向上させる。を提供する。【解決手段】 ドラム16にフィルム状の基材1を巻き掛けて基材1を走行させ、その走行中の基材1の表面1aにプラズマCVD法を利用してバリア層2を成膜するバリア性フィルムの製造方法において、基材1とドラム16とが対向する部分に、基材1から放出されるガスの逃げ場を設けた状態で成膜を行う。
請求項(抜粋):
ドラムにフィルム状の基材を巻き掛けて該基材を走行させ、その走行中の前記基材の表面にプラズマCVD法を利用してバリア層を成膜するバリア性フィルムの製造方法において、前記基材と前記ドラムとが対向する部分に前記基材から放出されるガスの逃げ場を設けた状態で成膜を行うことを特徴とするバリア性フィルムの製造方法。
IPC (3件):
C23C 16/54
, B32B 9/00
, C08J 7/06
FI (3件):
C23C 16/54
, B32B 9/00 A
, C08J 7/06 B
Fターム (38件):
4F006AA02
, 4F006AA12
, 4F006AA17
, 4F006AA19
, 4F006AA22
, 4F006AA35
, 4F006AA36
, 4F006AA37
, 4F006AA38
, 4F006AB76
, 4F006BA05
, 4F006CA07
, 4F100AA20
, 4F100AK41
, 4F100AR00B
, 4F100AT00A
, 4F100BA02
, 4F100DG10A
, 4F100DG15A
, 4F100EJ612
, 4F100EK00
, 4F100GB90
, 4F100JD01
, 4F100JD01B
, 4F100JG01A
, 4K030AA06
, 4K030AA09
, 4K030AA24
, 4K030BA44
, 4K030BB12
, 4K030CA07
, 4K030CA12
, 4K030FA01
, 4K030FA03
, 4K030GA02
, 4K030GA14
, 4K030KA46
, 4K030LA24
引用特許:
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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