塗布、現像装置及びその方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：井上俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-193367
公開番号（公開出願番号）：特開2009-278138
出願日： 2009年08月24日
公開日（公表日）： 2009年11月26日
要約：

【課題】基板に対してレジスト膜を形成し、露光後の基板を現像する装置において、現像処理を行うための処理ユニットや搬送機構のトラブルの発生に対してスループットの低下を抑えること。【解決手段】処理ブロックS2に、3層の塗布膜形成用の単位ブロックB3〜B5と、2層の現像処理用の単位ブロックB1,B2とを互いに積層して設ける。前記現像処理用の単位ブロックB1、B2の各々には、現像用の液処理ユニット、加熱ユニット、冷却ユニット及びキャリアブロック側からインターフェイスブロック側に向かって水平に直線状に伸びる搬送領域に沿って移動するメインアームA1が設けられる。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

キャリアブロックにキャリアにより搬入された基板を処理ブロックに受け渡し、この処理ブロックにてレジスト膜を含む塗布膜を形成した後、当該処理ブロックに対してキャリアブロックとは反対側に接続されたインターフェイスブロックを介して露光装置に搬送し、前記インターフェイスブロックを介して戻ってきた露光後の基板を前記処理ブロックにて現像処理して前記キャリアブロックに受け渡す塗布、現像装置において、 a)前記処理ブロックは、互いに積層され、各々独立して露光後の基板の現像処理を行う第1の現像処理用の単位ブロック及び第2の現像処理用の単位ブロックを備え、 b)前記各単位ブロックは、前記キャリアブロック側からインターフェイスブロック側に向かって水平に直線状に伸びる基板の搬送領域と、現像液を基板に供給するための液処理ユニットと、基板を加熱する加熱ユニットと、基板を冷却する冷却ユニットと、これらユニット間で基板を搬送するために前記搬送領域に沿って移動するように単位ブロックごとに独立して設けられた単位ブロック用の搬送手段と、を備えたことを特徴とする塗布、現像装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , H01L 21/677

FI (4件)：

H01L21/30 502J , H01L21/30 564C , H01L21/30 569C , H01L21/68 A

Fターム (18件)：

5F031CA02 , 5F031DA01 , 5F031FA01 , 5F031FA07 , 5F031FA11 , 5F031FA12 , 5F031FA13 , 5F031FA15 , 5F031GA02 , 5F031GA47 , 5F031GA48 , 5F031GA49 , 5F031MA02 , 5F031MA03 , 5F031MA26 , 5F031MA27 , 5F031PA02 , 5F046CD01

引用特許：

出願人引用 (6件)

基板処理システム及び塗布、現像装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-397558 出願人：東京エレクトロン株式会社
特許第3337677号公報
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-143424 出願人：東京エレクトロン株式会社

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