特許
J-GLOBAL ID：200903075198260083
極紫外線放射の発生方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
沢田 雅男
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-502683
公開番号（公開出願番号）：特表2005-524943
出願日： 2003年04月22日
公開日（公表日）： 2005年08月18日
要約：
【課題】 単純な技術的手段を用いてEUV発生用の高信頼のプラズマ生成を行い、かつ、従来技術の欠点を防止すること。【解決手段】 放射媒体が基本的な材料を処理することによって発生されるプラズマであり、放射媒体の基本的な材料配分が、リチウム(Li)および塩素(Cl)とリチウム(Li)およびフッ素(F)とに基づくハロゲン化物を除く、金属リチウム(Li)、インジウム(In)、スズ(Sn)、アンチモン(Sb)、テルル(Te)、アルミニウム(Al)のハロゲン化物の少なくとも一つ、および/または、ハロゲン、および/または、不活性ガスである、極紫外線放射方法。
請求項（抜粋）：
放射媒体が基本的な材料配分から発生されるプラズマである、極紫外線を生成する方法において、
前記放射媒体の前記基本的な材料配分が、リチウム(Li)および塩素(Cl)とリチウム(Li)およびフッ素(F)とに基づくハロゲン化物を除く、金属リチウム(Li)、インジウム(In)、スズ(Sn)、アンチモン(Sb)、テルル(Te)、アルミニウム(Al)のハロゲン化物の少なくとも一つ、および/または、ハロゲン、および/または、不活性ガスを備えることを特徴とする極紫外線放射方法。
IPC (3件)：
H05H1/24
, H01L21/027
, H05G2/00
H05H1/24
, H01L21/30 531S
, H05G1/00 K
4C092AA06
, 4C092AA14
, 4C092AB21
, 4C092AB27
, 4C092AC09
, 5F046GC03
