特許
J-GLOBAL ID：200903075360461276
高分子量化物を除去した(チオ)エポキシ化合物とその精製方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
金田 暢之 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-350693
公開番号（公開出願番号）：特開2001-163877
出願日： 1999年12月09日
公開日（公表日）： 2001年06月19日
要約：
【要約】【課題】 本発明は光学物性に優れ、非常に高い屈折率を有する光学用樹脂を与える(チオ)エポキシ化合物の経時的安定性を向上させることを目的とするものである。【解決手段】 下記式(1)又は(2)で示される構造を1個以上有する(チオ)エポキシ化合物に不活性な炭化水素系の溶媒を混合し撹拌する。静置後、炭化水素系の溶媒層と高分子量化物の層に分液し、高分子量化物の層を除去する。炭化水素系の溶媒層から溶媒を留去することにより、経時的安定性がより向上した(チオ)エポキシ化合物が得られる。【化1】(式中、R1、R2、R3、はそれぞれ炭素数1〜10の炭化水素基または水素原子を示し、Xは酸素原子または硫黄原子を示す。)【化2】(式中、R4、R5、R6、はそれぞれ炭素数1〜10の炭化水素基または水素原子、R7は炭素数1〜10の2価の炭化水素基を示し、Xは酸素原子または硫黄原子を示す。)
請求項（抜粋）：
1分子内に下記式(1)【化1】(式中、R1、R2、R3はそれぞれ炭素数1〜10の炭化水素基または水素原子を示し、Xは酸素原子または硫黄原子を示す。)で示される構造を1個以上有する(チオ)エポキシ化合物であって、該(チオ)エポキシ化合物由来の高分子量化物の含有量が20質量%以下であることを特徴とする(チオ)エポキシ化合物。
IPC (5件)：
C07D331/02
, C07D301/32
, C07D303/34
, C08G 75/14
, G02B 1/04
C07D331/02
, C07D301/32
, C07D303/34
, C08G 75/14
, G02B 1/04
4C048AA01
, 4C048BB17
, 4C048CC02
, 4C048KK05
, 4C048UU03
, 4C048UU05
, 4C048XX03
, 4C048XX04
, 4J030BA05
, 4J030BA42
, 4J030BA47
, 4J030BA48
, 4J030BA49
, 4J030BB03
, 4J030BB67
, 4J030BG25
