ウエーハの評価方法及び装置

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：石原詔二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-369802
公開番号（公開出願番号）：特開2004-193529
出願日： 2002年12月20日
公開日（公表日）： 2004年07月08日
要約：

【課題】どんな種類の欠陥や異物がウエーハ表面上に存在し、各欠陥や異物がどのようにウエーハ表面上に分布しているかを効果的に検出及び識別することのできるウエーハの評価方法及び装置を提供する。【解決手段】検査対象ウエーハである試料の表面をコンフォーカル光学系による光学的走査装置によって検査し、該検査によって検出された該試料表面上の欠陥や異物をその種類別に識別し、該識別された欠陥や異物の位置を各欠陥や異物の種類別を示す記号によって該試料に対応するウエーハ画面上に出力表示するようにした。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

検査対象ウエーハである試料の表面をコンフォーカル光学系による光学的走査装置によって検査し、該検査によって検出された該試料表面上の欠陥や異物をその種類別に識別し、該識別された欠陥や異物の位置を各欠陥や異物の種類別を示す記号によって該試料に対応するウエーハ画面上に出力表示するようにしたことを特徴とするウエーハの評価方法。

IPC (2件)：

H01L21/66 , H01L21/02

FI (2件)：

H01L21/66 J , H01L21/02 Z

Fターム (8件)：

4M106AA01 , 4M106BA04 , 4M106CA39 , 4M106CA41 , 4M106DB08 , 4M106DB18 , 4M106DJ20 , 4M106DJ23

引用特許：

審査官引用 (8件)

部品検査システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-307104 出願人：日本電子株式会社, 日本電子システムテクノロジー株式会社
パターン欠陥検査装置及びパターン欠陥検査方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-188558 出願人：株式会社日立製作所
レーザ顕微鏡及びこのレーザ顕微鏡を用いたパターン検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-088116 出願人：レーザーテック株式会社

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