特許
J-GLOBAL ID：200903075508447316
基板処理装置および送液装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
吉田 茂明
, 吉竹 英俊
, 有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-069834
公開番号（公開出願番号）：特開2004-281640
出願日： 2003年03月14日
公開日（公表日）： 2004年10月07日
要約：
【課題】パーティクルを発生させることなく、処理液を高精度に送液する装置を提供する。【解決手段】スリットノズル41に対してレジスト液(処理液)を送液する送液機構80に、レジストポンプ81と駆動機構82とを設ける。さらに、レジストポンプ81に、小径の第1ベローズ、大径の第2ベローズ、第1ベローズと第2ベローズとの接合部材、およびレジスト液の流路となるチューブを設ける。駆動機構82が図3において下方向に接合部材を移動させることにより、チューブの内部容積が減少し、チューブ内のレジスト液がスリットノズル41に送液される。また、駆動機構82が図3において下方向に接合部材を移動させることにより、チューブの内部容積が増加し、レジストポンプ81にレジスト液が吸引される。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
基板に所定の処理液の膜を形成する基板処理装置であって、
基板を保持する保持台と、
前記所定の処理液を基板の主面に吐出するスリットノズルと、
前記所定の処理液を供給する供給機構と、
前記所定の処理液を前記スリットノズルに送液する送液手段と、
を備え、
前記送液手段が、
内部容積を変更可能な容器部材と、
内部が前記所定の処理液の流路となるとともに、内部容積を変更可能なチューブ部材と、
前記容器部材の内部容積を変更駆動する駆動手段と、
を有し、
前記容器部材の内部に前記チューブ部材が配置され、前記容器部材と前記チューブ部材との間の空間には、間接液が内封されていることを特徴とする基板処理装置。
IPC (4件)：
H01L21/027
, B05C5/02
, B05C11/10
, G03F7/16
H01L21/30 564Z
, B05C5/02
, B05C11/10
, G03F7/16 501
2H025AB16
, 2H025AB17
, 2H025EA04
, 4F041AA02
, 4F041AA05
, 4F041AB01
, 4F041BA02
, 4F041BA10
, 4F041BA34
, 4F041CA02
, 4F041CA16
, 4F042AA02
, 4F042AA06
, 4F042AB00
, 4F042BA06
, 4F042BA11
, 4F042CA01
, 4F042CA09
, 4F042CB02
, 4F042CB08
, 4F042CB10
, 4F042CB11
, 4F042CB19
, 5F046JA02
, 5F046JA03
, 5F046JA27
