特許
J-GLOBAL ID：200903075538929080

ポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者：
吉田 優子

吉田 優子 について

, 
渋谷 明規

渋谷 明規 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (21件)： 鈴江 武彦 ,  蔵田 昌俊 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  福原 淑弘 ,  峰 隆司 ,  白根 俊郎 ,  村松 貞男 ,  野河 信久 ,  幸長 保次郎 ,  河野 直樹 ,  砂川 克 ,  風間 鉄也 ,  勝村 紘 ,  河井 将次 ,  佐藤 立志 ,  岡田 貴志 ,  堀内 美保子 ,  竹内 将訓 ,  市原 卓三 ,  山下 元
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-072370
公開番号（公開出願番号）：特開2009-258709
出願日： 2009年03月24日
公開日（公表日）： 2009年11月05日
要約：
【課題】ラインエッジラフネス、及びパターン倒れが改善されたポジ型感光性組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供すること。【解決手段】(A)オオニシパラメータが5.0以下のラクトン構造を有する繰り返し単位と、酸の作用によりカルボン酸を生成する一般式(I)で表される繰り返し単位を有する樹脂、及び(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。(式中の符号は明細書に記載の意味を表す。) 【化1】【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(A)オオニシパラメータが5.0以下のラクトン構造を有する繰り返し単位と、酸の作用によりカルボン酸を生成する一般式(I)で表される繰り返し単位を有する樹脂、及び (B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C08F 220/26
FI (3件)：
G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C08F220/26
Fターム (46件)：
2H025AA03 ,  2H025AB14 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ00 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025DA03 ,  2H025DA34 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA03R ,  4J100BA15P ,  4J100BA20P ,  4J100BA40P ,  4J100BA40R ,  4J100BC02Q ,  4J100BC02S ,  4J100BC03Q ,  4J100BC03S ,  4J100BC04Q ,  4J100BC04S ,  4J100BC07R ,  4J100BC08R ,  4J100BC09P ,  4J100BC09R ,  4J100BC12S ,  4J100BC23S ,  4J100BC43S ,  4J100BC53P ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (2件)

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