特許
J-GLOBAL ID：200903040314155022

ポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者：
児玉 邦彦

児玉 邦彦 について

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山本 慶

山本 慶 について

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高橋 表

高橋 表 について

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杉本 直哉

杉本 直哉 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-012723
公開番号（公開出願番号）：特開2007-272194
出願日： 2007年01月23日
公開日（公表日）： 2007年10月18日
要約：
【課題】活性光線又は放射線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、100nm以下の微細パターンの形成においても、パターン倒れが改良され、現像欠陥の少なく、解像力、孤立DOF、PEB温度依存性など諸性能に優れたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。【解決手段】特定の酸分解性繰り返し単位及び特定の非酸分解性繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記一般式(I)で表される酸分解性繰り返し単位及び下記一般式(II)で表される非酸分解性繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂(A)、および、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C08F 220/18
FI (3件)：
G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C08F220/18
Fターム (39件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA03R ,  4J100BA11P ,  4J100BA40P ,  4J100BA40R ,  4J100BC03Q ,  4J100BC04Q ,  4J100BC07S ,  4J100BC08P ,  4J100BC08Q ,  4J100BC08R ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09R ,  4J100BC12S ,  4J100BC52P ,  4J100BC53P ,  4J100BC58P ,  4J100CA04 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (22件)
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