特許

J-GLOBAL ID：200903075606247317

載置台構造及び熱処理装置

発明者： 田中 澄 ,  川崎 裕雄
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-170657
公開番号（公開出願番号）：特開2009-010195
出願日： 2007年06月28日
公開日（公表日）： 2009年01月15日
要約：

【課題】複数の加熱ゾーン毎に温度測定手段を設けるようにし、もって被処理体の面内均一性を継続的に高く維持し、熱処理の再現性を高く維持することができる載置台構造を提供する。【解決手段】同心円状になされた複数の加熱ゾーン毎に配置された加熱ヒータ部38A、38Bよりなる加熱手段40を有すると共に、被処理体を載置するための載置台32と、加熱ゾーン毎に設けられる温度測定手段70A、70Bと、載置台を起立させて支持するために中空になされた支柱30とを有する載置台構造において、支柱の直径は、その下端部側から上端部に向かうに従って順次拡大されていると共に、上端部は載置台の裏面に接合されており、温度測定手段の測定手段本体は中空の支柱内と支柱の側壁に設けた挿通路内とに挿通させる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

同心円状になされた複数の加熱ゾーン毎に配置された加熱ヒータ部よりなる加熱手段を有すると共に、熱処理の対象となる被処理体をその上に載置するための載置台と、 前記加熱ゾーン毎に設けられる温度測定手段と、 前記載置台を起立させて支持するために中空になされた支柱と、 を有する載置台構造において、 前記支柱の直径は、その下端部側から上端部に向かうに従って順次拡大されていると共に、前記上端部は前記載置台の裏面に接合されており、 前記温度測定手段の測定手段本体は前記中空の支柱内と前記支柱の側壁に設けた挿通路内とに挿通させて設けられることを特徴とする載置台構造。

IPC (4件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/46 ,  H01L 21/22 ,  H01L 21/324

FI (5件)：

H01L21/205 ,  C23C16/46 ,  H01L21/22 501G ,  H01L21/22 501M ,  H01L21/324 Q

Fターム (14件)：

4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030FA10 ,  4K030GA02 ,  4K030HA11 ,  4K030KA23 ,  4K030LA15 ,  5F045BB02 ,  5F045DP03 ,  5F045EB03 ,  5F045EK07 ,  5F045EK08 ,  5F045EK22 ,  5F045GB05

引用特許：

出願人引用 (6件)

• 特開昭63-278322号公報
  
• ガス処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-179845   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 特開平03-220718号公報
  
• プレートヒータ及びその製法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-046840   出願人：株式会社エイコー, 日新電機株式会社
• 熱処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-103458   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 載置台構造及び熱処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-130294   出願人：東京エレクトロン株式会社

審査官引用 (2件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-285229   出願人：株式会社日立国際電気
• 気相成長装置および気相成長装置の温度検出方法ならびに温度制御方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-389780   出願人：三菱住友シリコン株式会社