特許
J-GLOBAL ID：200903075608232805

α-不飽和アシルオキシ-γ-ブチルラクトン誘導体、高分子化合物及びフォトレジスト用樹脂組成物

発明者：
小山 裕

小山 裕 について

, 
住田 真理

住田 真理 について


出願人/特許権者：
ダイセル化学工業株式会社

ダイセル化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 後藤 幸久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-217765
公開番号（公開出願番号）：特開2006-036891
出願日： 2004年07月26日
公開日（公表日）： 2006年02月09日
要約：
【課題】 フォトレジスト用樹脂の構成モノマーとして有用な新規なラクトン骨格を有する化合物を提供する。【解決手段】 下記式(1)【化1】(式中、Raは水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1〜6のハロアルキル基を示す。Rbは酸脱離性基を示す。R1、R2は、同一又は異なって、炭化水素基を示す。R1及びR2は、互いに結合して、隣接する炭素原子と共に環を形成していてもよい。R3、R4は、同一又は異なって、水素原子又は炭化水素基を示す)で表されるα-不飽和アシルオキシ-γ-ブチロラクトン誘導体。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
下記式(1)
IPC (5件)：
C08F 220/28 ,  C08F 232/00 ,  G03F 7/039 ,  C07D 307/33 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
C08F220/28 ,  C08F232/00 ,  G03F7/039 601 ,  C07D307/32 T ,  H01L21/30 502R
Fターム (38件)：
2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AA09 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB10 ,  2H025CB14 ,  4H039CA42 ,  4H039CC20 ,  4H039CC30 ,  4J100AJ02Q ,  4J100AK32Q ,  4J100AL03Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AR09Q ,  4J100AR11Q ,  4J100BA03Q ,  4J100BA11P ,  4J100BA15Q ,  4J100BA20P ,  4J100BA20Q ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09Q ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM