特許

J-GLOBAL ID：200903075789008286

エッチング液を用いてシリコンを湿式化学的に処理するための方法および装置

発明者： マクシミリアン シュタードラー ,  ギュンター シュヴァープ ,  ヘルムート フランケ
出願人/特許権者： ワッカー ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
代理人 (5件)： 矢野 敏雄 ,  山崎 利臣 ,  久野 琢也 ,  アインゼル・フェリックス=ラインハルト ,  ラインハルト・アインゼル
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-355312
公開番号（公開出願番号）：特開2004-140368
出願日： 2003年10月15日
公開日（公表日）： 2004年05月13日
要約：

【課題】水、硝酸およびフッ化水素酸を含有するエッチング液を用いてシリコンを湿式化学的に処理するための方法および装置を提供する。【解決手段】エッチング液をシリコンの湿式化学的な処理のために初めて使用する前にエッチング液に窒素酸化物(NOx)を導入することによりエッチング液を活性化する。本発明による方法を実施するための装置は、 a)水、硝酸およびフッ化水素酸を含有するエッチング液(4)を用いてシリコンを湿式化学的に処理するための第一の容器(1)、 b)新鮮なエッチング液(5)含有する第二の容器(2)および c)第一の容器中で湿式化学的な処理の際に生じる窒素酸化物(NOx)を第二の容器に導通する、第一および第二の容器の間の接続導管(8)を有する。【効果】シリコンを添加しなくてもエッチング液は活性化され、反応水が生じないためにエッチング液の水の割合が変化しない。エッチング速度ひいてはシリコンウェハが一定になる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

水、硝酸およびフッ化水素酸を含有するエッチング液でシリコンを湿式化学的に処理する方法において、エッチング液をシリコンの湿式化学的な処理のために初めて使用する前にエッチング液に窒素酸化物(NOx)を導入することによりエッチング液を活性化することを特徴とする、水、硝酸およびフッ化水素酸を含有するエッチング液でシリコンを湿式化学的に処理する方法。

IPC (3件)：

H01L21/308 ,  C23F1/08 ,  C23F1/24

FI (3件)：

H01L21/308 B ,  C23F1/08 101 ,  C23F1/24

Fターム (12件)：

4K057WA05 ,  4K057WA11 ,  4K057WB06 ,  4K057WE07 ,  4K057WF01 ,  4K057WN01 ,  5F043AA02 ,  5F043BB02 ,  5F043BB03 ,  5F043EE21 ,  5F043EE23 ,  5F043EE40

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 加工物の湿式化学処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-122010   出願人：ワッカー・ケミトロニク・ゲゼルシャフト・フュア・エレクトロニク・グルントシュトッフェ・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング
• エッチング装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-138073   出願人：沖電気工業株式会社
• 単結晶ウェーハの処理方法とその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-336771   出願人：信越半導体株式会社
• 半導体基板のエッチング方法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-174588   出願人：住友シチックス株式会社
• エッチング装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-252544   出願人：日産自動車株式会社