特許
J-GLOBAL ID：200903076353969058

物体運搬方法、物体運搬装置、製造方法および製造された装置

発明者：
饗場 利明

饗場 利明 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (2件)： 西山 恵三 ,  内尾 裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-023581
公開番号（公開出願番号）：特開2004-249457
出願日： 2004年01月30日
公開日（公表日）： 2004年09月09日
要約：
【課題】 被運搬物体のピックアップ、リフトオフを確実に行ない、かつ被運搬物体、運搬手段のダメージを抑制する。【解決手段】 被運搬物体を運搬手段に付与する工程と、運搬手段を用いて被運搬物体を運搬する工程と、運搬手段から被運搬物体を離す工程を少なくとも有する物体運搬方法であって、 被運搬物体と運搬手段を近づけた状態で、第一のガス中で第一の粒子線を所望の個所に照射して堆積物を形成することで被運搬物体を運搬手段に付与し、 運搬手段から運搬物体を離す工程として、第二のガス中で第二の粒子線を前記所望の個所に照射して前記堆積物を選択的にエッチングする工程を有することを特徴とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
被運搬物体を運搬手段に付与する工程と、 前記運搬手段を用いて被運搬物体を所定の位置まで運搬する工程と、 前記運搬手段から前記被運搬物体を離す工程を有する物体運搬方法であって、 前記被運搬物体を前記運搬手段に付与する工程が、前記被運搬物体と前記運搬手段を近づけた状態で、第一のガス中で第一の粒子線を付与されるべき箇所に照射して、前記第一のガス中の物質を原料とする堆積物を形成する工程を含むものであり、 前記運搬手段から前記運搬物体を離す工程が 粒子線の存在下で前記堆積物の主要な成分のエッチングを促進する第二のガス中で、第二の粒子線を前記堆積物のある箇所に照射して、前記堆積物を選択的にエッチングする工程を含むものであることを特徴とする物体運搬方法。
IPC (6件)：
B81C5/00 ,  B23K15/00 ,  B82B3/00 ,  G01N1/28 ,  H01J37/20 ,  H01J37/305
FI (6件)：
B81C5/00 ,  B23K15/00 508 ,  B82B3/00 ,  H01J37/20 Z ,  H01J37/305 A ,  G01N1/28 F
Fターム (27件)：
2G052AA11 ,  2G052AA14 ,  2G052AA18 ,  2G052AD32 ,  2G052AD52 ,  2G052BA15 ,  2G052CA04 ,  2G052CA45 ,  2G052EC17 ,  2G052EC18 ,  2G052GA34 ,  2G052GA35 ,  2G052HA12 ,  2G052HC02 ,  2G052HC15 ,  2G052HC32 ,  2G052JA05 ,  2G052JA09 ,  4E066BA13 ,  4E066BD01 ,  4E066BD07 ,  4E066CB16 ,  5C001AA03 ,  5C001AA04 ,  5C001AA08 ,  5C001BB03 ,  5C034BB10
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (4件)
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