特許
J-GLOBAL ID：200903076426226415
表面処理組成物及び表面処理方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-056087
公開番号（公開出願番号）：特開平9-241612
出願日： 1996年03月13日
公開日（公表日）： 1997年09月16日
要約：
【要約】【課題】 表面処理組成物から基体表面への金属不純物の汚染を防止し、安定的に極めて清浄な基体表面を達成する事ができる基体の表面処理組成物を提供する。【解決手段】 液媒体中に芳香族炭化水素に直接結合したフェノール性OH基を有する有機錯化剤および酸化剤を含有する表面処理組成物において、酸化剤濃度が1重量ppm以上、3重量%以下である表面処理組成物。
請求項（抜粋）：
液媒体中に芳香族炭化水素基に直接結合したフェノール性OH基を有する有機錯化剤および酸化剤を含有する表面処理組成物において、酸化剤濃度が1重量ppm以上、3重量%以下であることを特徴とする表面処理組成物。
IPC (4件)：
C09K 3/00
, H01L 21/304 341
, C11D 7/26
, C11D 7/50
C09K 3/00 R
, H01L 21/304 341 L
, C11D 7/26
, C11D 7/50
