外部のステージング領域を有するロードロック

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長谷川芳樹 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-167885
公開番号（公開出願番号）：特開2001-135698
出願日： 2000年06月05日
公開日（公表日）： 2001年05月18日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】基板2列のみの基板セットを支持するための、小容量ロードロックチャンバを有する真空装置を提供することにより、ロードロックチャンバの迅速な排気とベントを提供し、ロードロックチャンバへの連続的に供給を可能にする。【解決手段】移送チャンバと、移送チャンバ102に接続した1つ以上の処理チャンバ106と、移送チャンバ102の中に配置される基板ハンドリングロボット103と、移送チャンバ102に接続され、一つ以上の基板を有することは、スタック1つあたり基板2枚のスタック1つ以上を支持するための1つ以上の基板支持部材を有する少なくとも1つのロードロックチャンバと112を有する。

請求項（抜粋）：

処理基板のための真空装置であって、(a) 移送チャンバと(b) 移送チャンバに連結した一つ以上の処理チャンバと、(c) 移送チャンバの中に配置される基板ハンドリングロボットと、(d) 移送チャンバに連結し、2枚の基板のスタック1つ以上を支持するために一つ以上の基板支持部材を有する、少なくとも1つのロードロックチャンバとを備える真空装置。

引用特許：

審査官引用 (5件)

超高スループット・ウェハ真空処理システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-317141 出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-233601 出願人：東京エレクトロン株式会社
真空処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-168142 出願人：東京エレクトロン株式会社, テル・バリアン株式会社, テル・エンジニアリング株式会社

全件表示

前のページに戻る