特許
J-GLOBAL ID：200903076561987167
処理装置及び該処理装置に用いられるカバー体の洗浄方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萩原 康司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-142409
公開番号（公開出願番号）：特開平7-331445
出願日： 1994年06月01日
公開日（公表日）： 1995年12月19日
要約：
【要約】【目的】 処理室内の特にシャワーヘッドや処理室の内側面を容易にクリーニングできる手段を提供することにより、ウェハのパーティクル汚染防止を図ると共に、装置のダウンタイムを低減させて、稼働率の向上を図る。【構成】 気密な処理室2内において、載置台25上に載置された被処理体Wをこの被処理体に対向配置されたシャワーヘッド6より導入した処理ガスを用いて処理する処理装置1であって、該シャワーヘッド6の外周部にデポが付着するのを防止するためのカバー体60を脱着自在に装着する。
請求項（抜粋）：
気密な処理室内において、載置台上に載置された被処理体をこの被処理体に対向配置されたシャワーヘッドより導入した処理ガスを用いて処理するものであって、該シャワーヘッドの外周部にデポが付着するのを防止するためのカバー体を脱着自在に装着したことを特徴とする処理装置。
IPC (6件)：
C23C 16/44
, C23C 16/46
, H01L 21/205
, H01L 21/304 341
, H01L 21/304
, H01L 21/31
