特許
J-GLOBAL ID：200903077514751348

投影露光方法、投影露光装置、及びそれを用いたデバイスの製造方法

発明者：
服部 正

服部 正 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 西山 恵三 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-187693
公開番号（公開出願番号）：特開2001-015422
出願日： 1999年07月01日
公開日（公表日）： 2001年01月19日
要約：
【要約】【課題】 ステージ走り面が傾いているときの、ステージの駆動によるフォーカス方向へのステージの変動分をあらかじめ計測する。【解決手段】 被露光体を保持する基板保持盤の上に光を反射する物体を載置し、投影光学系の光軸方向に関する位置を前記光軸方向と交差する方向のそれぞれの位置において検出する複数の位置検出器を用いて、ステージを駆動させて前記物体表面の同一箇所の前記光軸方向に関する位置を検出し、前記位置検出器を用いて得られた計測値に基づいて前記ステージの前記光軸方向の変動した量を補正するテーブルを作成する。
請求項（抜粋）：
被露光体を保持する基板保持盤の上に光を反射する物体を載置し、投影光学系の光軸方向に関する位置を前記光軸方向と交差する方向のそれぞれの位置において検出する複数の位置検出器を用いて、ステージを駆動させて前記物体表面の同一箇所の前記光軸方向に関する位置を検出するステップと、前記位置検出器を用いて得られた計測値に基づいて前記ステージの前記光軸方向に変動した量を補正するテーブルを作成するステップ、を有することを特徴とする投影露光方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/02
FI (4件)：
H01L 21/30 525 W ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/02 H ,  H01L 21/30 526 Z
Fターム (14件)：
5F046BA05 ,  5F046CA04 ,  5F046CB05 ,  5F046CB23 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC05 ,  5F046CC16 ,  5F046DA05 ,  5F046DA14 ,  5F046DB05 ,  5F046DB10 ,  5F046DC09 ,  5F046DD06
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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