特許
J-GLOBAL ID：200903076876929122
微細物評価装置、微細物評価方法および微細物評価プログラム
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (3件)：
青山 葆
, 河宮 治
, 山崎 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-085643
公開番号（公開出願番号）：特開2004-294210
出願日： 2003年03月26日
公開日（公表日）： 2004年10月21日
要約：
【課題】本発明の目的は、物質が含む微細物の形成状態を簡単且つ迅速に評価することができる微細物評価装置、微細物評価方法および微細物評価プログラムを提供することにある。【解決手段】光源1から微粒子を含む層の表面へ向けて光を照射して、その層の光が入射した側から出射する反射光を光学測定部2で受ける。光学測定部2は、層から得た反射光の波長に対する光強度の分布を測定する。また、計算部20は、層および微粒子のモデルの仮定した複数の要素に基づいて、モデルからの反射光の波長に対する光強度の分布を計算する。そして、光学測定部2が測定した反射光の分布と、計算部20が計算した反射光の分布とを比較部30で照合する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
光に対して透過性である層中に存在する微細物の状態を評価する微細物評価装置において、
上記層の表面へ向けて上記光を照射する光源と、
上記層の上記光が入射した側から出射する反射光を受けて、上記反射光の波長に対する光強度の分布を測定する光学測定部と、
上記層および微細物のモデルの仮定した複数の要素に基づいて、上記モデルからの反射光の波長に対する光強度の分布を計算するモデル計算部と、
上記光学測定部が測定した上記反射光の上記分布と、上記モデル計算部が計算した上記反射光の上記分布とを照合する照合部と
を備えたことを特徴とする微細物評価装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01N21/27 B
, H01L21/66 P
2G059AA01
, 2G059BB16
, 2G059CC03
, 2G059EE01
, 2G059EE02
, 2G059EE12
, 2G059HH02
, 2G059MM01
, 4M106AA01
, 4M106BA04
, 4M106CB30
, 4M106DH03
