特許
J-GLOBAL ID：200903076880655622

高周波加熱装置

発明者：
神崎 浩二

神崎 浩二 について

, 
早川 雄二

早川 雄二 について


出願人/特許権者：
松下電器産業株式会社

松下電器産業株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  栗宇 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-228948
公開番号（公開出願番号）：特開2004-069175
出願日： 2002年08月06日
公開日（公表日）： 2004年03月04日
要約：
【課題】被加熱物の加熱用に用いる蒸気を加熱室内の清掃用に用いると共に、この清掃作業を簡単に行うこと可能とする。【解決手段】制御部によって入力された信号に応じて蒸発皿清掃モード、加熱室清掃モードによる清掃を実行する。加熱室清掃モードでは、加熱室11の内面を蒸気によって結露させ、加熱室11の内面に付着した汚れを浮き上がらせて容易に除去可能な状態とする。蒸発皿清掃モードでは、蒸発皿35にクエン酸溶液からなる洗浄液を入れて所定温度に加熱して漬け置きすることにより、蒸発皿35に付着したカルシウムやマグネシウム等を容易に除去可能な状態とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
被加熱物を収容する加熱室に高周波を供給する高周波発生部と、前記加熱室内に蒸気を供給する蒸気発生部とによって、前記加熱室に高周波と蒸気との少なくともいずれかを供給して被加熱物を加熱処理する高周波加熱装置であって、 前記蒸気発生部により前記加熱室内に蒸気を自動供給して加熱室内の汚れを清掃する加熱室清掃モードを備えた制御部と、 前記制御部に対して前記加熱室清掃モードを実行させるための信号入力手段とを具備したことを特徴とする高周波加熱装置。
IPC (2件)：
F24C7/02 ,  H05B11/00
FI (2件)：
F24C7/02 511P ,  H05B11/00 Z
Fターム (18件)：
3K086AA03 ,  3K086AA10 ,  3K086BA01 ,  3K086BA08 ,  3K086CA02 ,  3K086CC03 ,  3K086CC07 ,  3K086CC12 ,  3K086CD07 ,  3K086CD27 ,  3L086AA01 ,  3L086AA07 ,  3L086BA08 ,  3L086BB14 ,  3L086CA20 ,  3L086DA08 ,  3L086DA09 ,  3L086DA28
引用特許：
審査官引用 (6件)
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