特許
J-GLOBAL ID:200903076918370503
多段型の放電プラズマ処理方法及び装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-248039
公開番号(公開出願番号):特開2003-059924
出願日: 2001年08月17日
公開日(公表日): 2003年02月28日
要約:
【要約】【課題】 放電プラズマ処理による酸化金属薄膜又は窒化金属薄膜の形成において、膜質に優れ、産業上必要とされる成膜速度で酸化金属薄膜又は窒化金属薄膜を容易に形成できる方法及びその装置の提供。【解決手段】 金属元素含有ガスと酸素含有ガス及び/又は窒素含有ガスを反応させて酸化金属化合物及び/又は窒化金属化合物からなる薄膜を形成する放電プラズマ処理方法において、一つのプラズマ発生室を通過した金属元素含有ガスに、酸素含有ガス及び/又は窒素含有ガスを合流させて、別のプラズマ発生室を通過させて薄膜を形成することを特徴とする多段型の放電プラズマ処理方法及びその装置。
請求項(抜粋):
金属元素含有ガスと酸素含有ガス及び/又は窒素含有ガスを反応させて酸化金属化合物及び/又は窒化金属化合物からなる薄膜を形成する放電プラズマ処理方法において、一つのプラズマ発生室を通過した金属元素含有ガスに、酸素含有ガス及び/又は窒素含有ガスを合流させて、別のプラズマ発生室を通過させて薄膜を形成することを特徴とする多段型の放電プラズマ処理方法。
IPC (5件):
H01L 21/316
, B01J 19/08
, C23C 16/509
, H01L 21/31
, H05H 1/24
FI (5件):
H01L 21/316 X
, B01J 19/08 H
, C23C 16/509
, H01L 21/31 C
, H05H 1/24
Fターム (69件):
4G075AA24
, 4G075AA30
, 4G075AA61
, 4G075BC04
, 4G075BD14
, 4G075CA14
, 4G075CA15
, 4G075DA01
, 4G075DA13
, 4G075EB41
, 4G075EC21
, 4G075FA01
, 4G075FC15
, 4K030AA14
, 4K030AA18
, 4K030BA02
, 4K030BA11
, 4K030BA16
, 4K030BA17
, 4K030BA21
, 4K030BA38
, 4K030BA40
, 4K030BA44
, 4K030CA04
, 4K030CA12
, 4K030EA06
, 4K030FA03
, 4K030JA11
, 4K030JA13
, 4K030JA14
, 4K030KA14
, 4K030KA17
, 4K030KA30
, 4K030KA47
, 5F045AA08
, 5F045AB31
, 5F045AB32
, 5F045AB33
, 5F045AC01
, 5F045AC07
, 5F045AC11
, 5F045AC12
, 5F045AE25
, 5F045AF03
, 5F045AF07
, 5F045BB09
, 5F045EH04
, 5F045EH05
, 5F045EH08
, 5F045EH13
, 5F045EH18
, 5F045EH19
, 5F045HA24
, 5F058BB06
, 5F058BC02
, 5F058BC03
, 5F058BC08
, 5F058BC12
, 5F058BF07
, 5F058BF23
, 5F058BF27
, 5F058BF29
, 5F058BF30
, 5F058BF37
, 5F058BF38
, 5F058BG01
, 5F058BG02
, 5F058BG10
, 5F058BJ01
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (3件)
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