特許

J-GLOBAL ID：200903077041139089

レジスト組成物

発明者： 尾家 正行 ,  田中 秀行 ,  阿部 信紀 ,  三沢 真理
出願人/特許権者： 日本ゼオン株式会社
代理人 (1件)： 西川 繁明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-312672
公開番号（公開出願番号）：特開平7-092681
出願日： 1993年11月18日
公開日（公表日）： 1995年04月07日
要約：

【要約】【目的】感度、解像度、耐エッチング性、保存安定性、及びプロセス余裕度などのレジスト特性に優れたレジスト材料を提供すること。【構成】(A)活性光線の照射により酸を生成可能な化合物、(B)酸に対して不安定な基を持つ構造単位を有し、かつ、化合物(A)に由来する酸の存在下に該基が開裂してアルカリ可溶性となる重合体、及び(C)カルボン酸アミド化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)活性光線の照射により酸を生成可能な化合物、(B)酸に対して不安定な基を持つ構造単位を有し、かつ、化合物(A)に由来する酸の存在下に該基が開裂してアルカリ可溶性となる重合体、及び(C)カルボン酸アミド化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/023 511 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (7件)

• 特開平3-289658
  
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-073169   出願人：日本合成ゴム株式会社
• 感放射線性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-209404   出願人：日本合成ゴム株式会社
• ポジ型化学増幅系レジスト
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-344419   出願人：日本合成ゴム株式会社
• ポジ型レジスト材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-077419   出願人：日本電信電話株式会社
• 特開昭63-149638
  
• 感光性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-054398   出願人：株式会社東芝