特許
J-GLOBAL ID:200903077087516103

形状計測装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 田澤 英昭 ,  加藤 公延 ,  濱田 初音
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-329759
公開番号(公開出願番号):特開2008-145139
出願日: 2006年12月06日
公開日(公表日): 2008年06月26日
要約:
【課題】信頼性が高く精度の良い被測定物の形状計測を行う。【解決手段】保持している光線制御データに基づき、明暗のピッチ幅を順次半減したストライプ状の投影パターンを有する光線を発光して被測定物Mに照射する光線照射手段20と、光線が照射された被測定物Mを撮像して画像情報を出力する撮像手段30と、撮像された画像情報から被測定物Mの形状を算出する画像情報演算手段40とを備え、ストライプ状の投影パターンにおける明暗の変化部分が所定の勾配を有している。【選択図】図1
請求項(抜粋):
保持している光線制御データに基づき、明暗のピッチ幅を順次半減したストライプ状の投影パターンを有する光線を発光して被測定物に照射する光線照射手段と、該光線照射手段により光線が照射された被測定物を撮像して画像情報を出力する撮像手段と、該撮像手段により撮像された画像情報から上記被測定物の形状を算出する画像情報演算手段とを備えた形状計測装置において、 上記光線照射手段が照射する光線のストライプ状の投影パターンは、明暗のピッチ幅を順次半減した投影パターンのうちの明暗のピッチ幅が最小以外の第1の投影パターンと、該第1の投影パターンの明暗を反転させた第2の投影パターンと、明暗のピッチ幅が最小の第3の投影パターンと、該第3の投影パターンの明暗を反転させた第4の投影パターンと、上記第3の投影パターンの位相を所定周期分シフトさせた第5の投影パターンと、該第5の投影パターンの明暗を反転させた第6の投影パターンであり、上記第1から上記第6の投影パターンにおける明暗の変化部分が所定の勾配を有していることを特徴とする形状計測装置。
IPC (1件):
G01B 11/25
FI (1件):
G01B11/25 H
Fターム (17件):
2F065AA04 ,  2F065AA24 ,  2F065AA52 ,  2F065AA53 ,  2F065BB05 ,  2F065FF00 ,  2F065FF07 ,  2F065FF09 ,  2F065FF41 ,  2F065GG04 ,  2F065HH05 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL15 ,  2F065MM16 ,  2F065NN02
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 形状計測装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平10-192166   出願人:シーケーディ株式会社, 株式会社ネクスタ
審査官引用 (4件)
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