特許
J-GLOBAL ID：200903077149853250

レジスト剥離液

発明者：
南朴木 孝至

南朴木 孝至 について

, 
松崎 威毅

松崎 威毅 について


出願人/特許権者：
シャープ株式会社

シャープ株式会社 について

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東邦化学工業株式会社

東邦化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 岡田 和秀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-063423
公開番号（公開出願番号）：特開平10-260537
出願日： 1997年03月17日
公開日（公表日）： 1998年09月29日
要約：
【要約】【課題】 基板上に付着したレジストのみならず、ドライエッチングによって変質したレジストからなる側壁保護膜をも一括的に剥離して完全に除去することができるレジスト剥離液を提供する。【解決手段】 本発明にかかるレジスト剥離液1は、基板3に付着したレジスト及び側壁保護膜を溶解して剥離させたうえ、超臨界流体5を用いた洗浄でもって除去されるレジスト剥離液1であり、グリコールエーテル系溶剤を主成分とし、かつ、有機アミン化合物を含有していることを特徴とするものである。
請求項（抜粋）：
基板に付着したレジスト及び側壁保護膜を溶解して剥離させたうえ、超臨界流体を用いた洗浄でもって除去されるレジスト剥離液であって、グリコールエーテル系溶剤を主成分とし、かつ、有機アミン化合物を含有していることを特徴とするレジスト剥離液。
IPC (4件)：
G03F 7/42 ,  C11D 7/32 ,  C11D 7/50 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F 7/42 ,  C11D 7/32 ,  C11D 7/50 ,  H01L 21/30 572 B
引用特許：
審査官引用 (4件)
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