特許

J-GLOBAL ID：200903077263544402

投影光学系の収差計測装置及び計測方法、それに用いられるマスク並びに露光装置

発明者： 蛭川 茂
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 恩田 博宣 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-084154
公開番号（公開出願番号）：特開2001-272310
出願日： 2000年03月24日
公開日（公表日）： 2001年10月05日
要約：

【要約】【課題】 投影光学系の光軸方向に生じる収差を簡単な構成で精度よく計測可能な収差計測装置及び計測方法、及び露光精度の向上された露光装置を提供する。【解決手段】 位相シフトレチクルRpsに、透光部Ptと位相シフト部Ppi,Ppoとが遮光部Psを介して同一ピッチで交互配置した内側マークMip及び外側マークMopを、外側マークMopが前記内側マークMipを所定の間隔をおいて挟み込むように形成する。前記内側マークMipにおける位相差をπ-φ(rad)に、前記外側マークMopにおける位相差をπ+φ(rad)にそれぞれ設定する。そして、この両マークMip,Mopを通常照明にて垂直に照明することにより、投影光学系に残存する球面収差による焦点位置のずれを、その光軸と直交する平面内における前記両マークMip,Mopの像の相対位置のずれに変換して計測する。

請求項（抜粋）：

マスク上に形成されたパターンの像を像面上に結像させる投影光学系の収差を計測するための収差計測装置において、前記投影光学系の光軸方向に生じる前記収差を前記光軸と交差する方向における前記パターンの像の位置ずれに変換する変換手段と、前記パターンの像の位置ずれを計測する計測手段とを設けた収差計測装置。

IPC (5件)：

G01M 11/02 ,  G02B 13/24 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

G01M 11/02 B ,  G02B 13/24 ,  G03F 1/08 A ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 522 D ,  H01L 21/30 525 W

Fターム (16件)：

2G086HH06 ,  2H087KA21 ,  2H087LA01 ,  2H087NA01 ,  2H095BA02 ,  2H095BB03 ,  2H095BB31 ,  5F046AA25 ,  5F046CB17 ,  5F046DB05 ,  5F046DB10 ,  5F046FB17 ,  5F046FC06 ,  9A001BB06 ,  9A001KK16 ,  9A001KK37

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 投影露光装置および該装置を用いた半導体デバイスの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-114161   出願人：株式会社ニコン
• 位相シフトマスク及びそれを用いた焦点位置検出方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-113199   出願人：沖電気工業株式会社
• 光学結像システムの収差を検出する方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-334220   出願人：コーニンクレッカフィリップスエレクトロニクスエヌヴィ, エーエスエムエルネザーランズビーヴィ
• ハーフトーン型位相シフトマスク及び合わせずれ測定マークの測定方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-172990   出願人：株式会社東芝