レジスト材料及びそれを用いたパターン形成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：前田弘 , 小山廣毅 , 竹内宏 , 竹内祐二 , 今江克実 , 原田智雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-109633
公開番号（公開出願番号）：特開2005-292613
出願日： 2004年04月02日
公開日（公表日）： 2005年10月20日
要約：

【課題】レジスト膜における解像度(溶解コントラスト)を向上して、良好な形状を持つ微細パターンを得られるようにする。【解決手段】基板101の上に酸化チタンを含むレジスト膜102を形成し、続いて、形成したレジスト膜102に波長が400nm以下の光又は電子線からなる露光光103をマスク104を介して照射してパターン露光を行なう。その後、パターン露光を行なったレジスト膜102に対して現像を行なうことにより、レジスト膜102aの未露光部からなるレジストパターン102aを形成する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

酸化チタンを含むことを特徴とするレジスト材料。

IPC (4件)：

G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/26 , H01L21/027

FI (4件)：

G03F7/004 501 , G03F7/039 601 , G03F7/26 511 , H01L21/30 502R

Fターム (35件)：

2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AA04 , 2H025AB16 , 2H025AC01 , 2H025AC04 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BB00 , 2H025BE00 , 2H025BE01 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025BH03 , 2H025CB16 , 2H025CB17 , 2H025CB29 , 2H025CC20 , 2H025DA40 , 2H025FA17 , 2H096AA25 , 2H096BA10 , 2H096BA11 , 2H096CA05 , 2H096EA02 , 2H096EA03 , 2H096EA04 , 2H096EA06 , 2H096EA23 , 2H096GA08 , 2H096HA07 , 2H096KA19 , 2H096LA07

引用特許：

審査官引用 (8件)

特開平3-024168
感光性樹脂組成物およびパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-126201 出願人：株式会社関西新技術研究所
三層レジスト法によるパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-307627 出願人：沖電気工業株式会社

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