特許
J-GLOBAL ID：200903077351530543
マイクロエレクトロニクス用のストリッピングおよび洗浄組成物
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
青山 葆
, 岩崎 光隆
, 中嶋 正二
, 小島 一晃
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-419498
公開番号（公開出願番号）：特開2005-055859
出願日： 2003年12月17日
公開日（公表日）： 2005年03月03日
要約：
【課題】 マイクロエレクトロニクス基板、特にFPDマイクロエレクトロニクス基板用の、本質的に完全にかかる基板を洗浄でき、実質的にかかる基板の金属要素の金属腐食をもたらさないアルカリ含有洗浄組成物、および洗浄組成物の使用方法を提供する。【解決手段】 (a)求核性アミン(b)水性溶液中の解離定数「pKa」として表現される強度が約1.2ないし約8である、中程度ないし弱い酸(c)脂肪族アルコール、ジオール、ポリオールまたは脂肪族グリコールエーテルから選択される化合物、および(d)好ましくは約8ないし約15の溶解性パラメーターを有する有機共溶媒、を有するアルカリ含有洗浄組成物を提供する。洗浄組成物は、アミン基に対する酸基の等価のモル比が0.75以上である、そして、例えば1.02以上のように、1以上の範囲にあってもよい量の弱酸を有する。アルカリ含有洗浄組成物のpHは、約pH4.5ないし9.5である。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
以下の成分:
(a)求核性アミン、
(b)水性溶液中の解離定数「pKa」として表現される強度が約1.2ないし約8である、中程度ないし弱い酸、
(c)脂肪族アルコール、ジオール、ポリオールまたはグリコールエーテルからなる群から選択される化合物、および
(d)有機共溶媒、
を含み、弱酸成分(b)は、酸/アミンの等価のモル比が0.75以上、組成物のpHが約pH4.5ないし9.5である量で組成物中に存在する、
マイクロエレクトロニクス基板洗浄用組成物。
IPC (7件)：
G03F7/42
, B08B3/08
, C11D7/08
, C11D7/26
, C11D7/32
, C11D7/50
, H01L21/304
G03F7/42
, B08B3/08 A
, C11D7/08
, C11D7/26
, C11D7/32
, C11D7/50
, H01L21/304 647A
, H01L21/304 647Z
2H096AA25
, 2H096AA26
, 2H096AA27
, 2H096LA02
, 2H096LA03
, 2H096LA16
, 3B201AA02
, 3B201AA03
, 3B201BB95
, 3B201BB96
, 4H003BA12
, 4H003DA15
, 4H003EA04
, 4H003EB07
, 4H003EB12
, 4H003EB14
, 4H003ED28
, 4H003ED29
, 4H003ED32
