特許
J-GLOBAL ID:200903077362329742

窒化物半導体受光素子とその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 豊栖 康弘 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-123752
公開番号(公開出願番号):特開2003-318434
出願日: 2002年04月25日
公開日(公表日): 2003年11月07日
要約:
【要約】【課題】 高い感度を有する窒化物半導体受光素子を提供する。【解決手段】 n型窒化物半導体層、i型窒化物半導体層及びp型窒化物半導体層を順に積層した受光素子であり、n型窒化物半導体層からp型窒化物半導体層に向かう積層方向を[000-1]方向に一致させた。
請求項(抜粋):
n型窒化物半導体層、i型窒化物半導体層及びp型窒化物半導体層を順に積層した受光素子であって、上記n型窒化物半導体層から上記p型窒化物半導体層に向かう積層方向が[000-1]方向に一致することを特徴とする窒化物半導体受光素子。
Fターム (8件):
5F049MA04 ,  5F049MB07 ,  5F049NA01 ,  5F049PA03 ,  5F049PA11 ,  5F049PA15 ,  5F049PA18 ,  5F049PA20
引用特許:
審査官引用 (5件)
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