ガスクラスターイオンビーム・スムーザー装置

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：廣江武典 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-542357
公開番号（公開出願番号）：特表2003-521812
出願日： 2000年12月06日
公開日（公表日）： 2003年07月15日
要約：

【要約】基材の表面を平滑化するための装置はガスクラスター粒子を形成するためのイオナイザー;ガスクラスター粒子を加速するための電源;加速されたガスクラスター粒子を焦点に集めるための三極管/アインゼルレンズ組み合わせアセンブリー;永久磁石ビームフィルター;減圧雰囲気チャンバー中に位置するワークピースの表面に、濾過され加速されたガスクラスター粒子を照射するための走査プレート;およびワークピースに負荷し、負荷解除するための基材負荷/負荷解除メカニズムを含む。イオナイザーは整列デバイスを含み、ここに、該整列デバイスはX/Y並進エレメントおよび角度並進エレメントを含む。基材負荷/負荷解除メカニズムは、減圧雰囲気チャンバー内の第一の位置に位置したホールダーに、複数のワークピースからワークピースを供し、該第1の位置は、濾過され加速されたガスクラスター粒子の流れの中心軸に対して実質的に平行である。また、基材負荷/負荷解除メカニズムは、それにワークピースが備えられたホールダーを第2の位置まで移動させ、該第2の位置は、該第1の位置および濾過され加速されたガスクラスター粒子の流れの中心軸に対して実質的に垂直である。

請求項（抜粋）：

(a)複数の原子または分子を含むガスクラスター粒子を形成し; (b)ガスクラスター粒子をイオン化し; (c)イオン化されたガスクラスター粒子を加速し; (d)永久磁石ビームフィルターを用いて、加速されたガスクラスター粒子を濾過し;次いで、 (e)減圧雰囲気中で、加速され磁気的に選択されたガスクラスター粒子を基材の表面に照射する;工程を含むことを特徴とする基材表面の処理方法。

IPC (3件)：

H01L 21/302 201 , H01J 27/20 , H01J 37/305

FI (3件)：

H01L 21/302 201 B , H01J 27/20 , H01J 37/305 A

Fターム (6件)：

5C030DG03 , 5C030DG07 , 5C034BB09 , 5F004AA06 , 5F004BA11 , 5F004BB32

引用特許：

審査官引用 (10件)

特開平4-198475
質量分析型ガス漏れ検知器
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-287861 出願人：日本電信電話株式会社
特開平4-198475

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