特許
J-GLOBAL ID：200903077511251670
レジスト用粗樹脂の精製方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-031285
公開番号（公開出願番号）：特開2005-189789
出願日： 2004年02月06日
公開日（公表日）： 2005年07月14日
要約：
【課題】 レジスト用粗樹脂中に含まれるポリマーやオリゴマー等の副生物を効果的に除去できるレジスト用粗樹脂の精製方法、該精製方法により得られるレジスト用樹脂、該レジスト用樹脂を用いるホトレジスト組成物の製造方法および該レジスト用樹脂を用いたホトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】 少なくとも(A)レジスト用樹脂及び(B)酸発生剤を(C1)有機溶剤に溶解してなるホトレジスト組成物に用いる(A)成分の粗樹脂を精製する方法であって、ホトレジスト組成物中の(A)成分の濃度をXとし、また(A)成分の粗樹脂を(C2)有機溶剤に溶解してなる溶液における粗樹脂濃度をYとしたとき、(イ)YはXより小さくなるよう粗樹脂溶液を調製し、次いで(ロ)粗樹脂溶液を濾過するレジスト用粗樹脂の精製方法。該精製方法により得られるレジスト用樹脂。該レジスト用樹脂を用いたホトレジスト組成物およびその製造方法。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
少なくとも(A)レジスト用樹脂及び(B)酸発生剤を(C1)有機溶剤に溶解してなるホトレジスト組成物に用いる前記(A)成分の粗樹脂を精製する方法であって、前記ホトレジスト組成物における前記(A)成分の濃度をXとし、
また前記(A)成分の粗樹脂を(C2)有機溶剤に溶解してなる粗樹脂溶液における前記(A)成分の粗樹脂濃度をYとしたとき、
(イ)YはXより小さくなるよう前記粗樹脂溶液を調製し、
次いで(ロ)前記粗樹脂溶液を濾過することを特徴とするレジスト用粗樹脂の精製方法。
IPC (3件)：
G03F7/26
, C08F6/12
, G03F7/039
G03F7/26
, C08F6/12
, G03F7/039 601
2H025AA02
, 2H025AB16
, 2H025AC08
, 2H025AD05
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025BJ10
, 2H096AA25
, 2H096LA30
, 4J100AL08P
, 4J100BA03P
, 4J100BA20P
, 4J100BC09P
, 4J100BC12P
, 4J100BC53P
, 4J100CA05
, 4J100DA01
, 4J100EA01
, 4J100FA19
, 4J100GC35
, 4J100JA38
