特許
J-GLOBAL ID：200903077608861546

基板処理装置、基板処理方法および塗布・現像装置

発明者：
中原田 雅弘

中原田 雅弘 について

, 
宇都宮 由典

宇都宮 由典 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 井上 俊夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-150830
公開番号（公開出願番号）：特開2003-347181
出願日： 2002年05月24日
公開日（公表日）： 2003年12月05日
要約：
【要約】【課題】 基板に対して所定の処理を行う基板処理装置において、載置部上で処理された基板と次の基板との入れ替えに要する時間を短くしてスループットの向上を図ること【解決手段】 例えば被処理基板を載置するための基板載置部の上方に処理前の基板を例えば基板搬送手段から受け取り待機させる基板待機手段を設け、更には処理後の基板を基板搬送手段に受け渡すと共に、基板待機手段から前記処理前の基板を受け取って基板載置部上に載置する基板昇降部とを備えた構成とする。この場合、先に搬入されて処理されている基板の処理が終わる前に次の基板を基板待機手段に搬入しておくことができる。このため基板載置部に基板が搬入されるのを待っている時間が低減されてスループットの低下を抑えることができる。
請求項（抜粋）：
基板載置部に基板を載置して所定の処理を行う基板処理装置において、基板載置部の上方に設けられ、処理前の基板を外部から受け取る基板待機手段と、基板載置部上の処理後の基板を上昇させて外部の搬送手段に受け渡すと共に、相対的に下降した基板待機手段から前記処理前の基板を受け取り、下降して基板載置部上に載置する基板昇降部と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。
Fターム (2件)：
5F046JA27 ,  5F046LA19
引用特許：
出願人引用 (4件)
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