特許
J-GLOBAL ID:200903077721283532

薄膜パターンの形成方法および有機電界発光表示装置の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 藤島 洋一郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-107659
公開番号(公開出願番号):特開2002-302759
出願日: 2001年04月05日
公開日(公表日): 2002年10月18日
要約:
【要約】【課題】 高精度かつ大面積のパターンを簡易に形成することができる薄膜パターンの形成方法、および、これを用いた有機電界発光表示装置(有機ELディスプレイ)の製造方法を提供する。【解決手段】 蒸着源10の平滑面には所定形状の電極パターン11が設けられており、その上に蒸着材料12を配する。次いで、蒸着対象となる基板30を蒸着源10の平滑面に対向配置させ、所定の距離を保ったまま電極パターン11に通電する。これにより、電極パターン11において発生するジュール熱が蒸着材料12を蒸発させ、これが基板30の対向面に蒸着し、電極パターン11に対応したパターン形状の薄膜31が形成される。
請求項(抜粋):
所定の電極パターンが設けられた蒸着源において、前記電極パターンの上に蒸着材料を設置し、前記電極パターンに通電することにより前記蒸着材料を蒸発させ、前記蒸着源に対向配置した基板の面上に薄膜を形成することを特徴とする薄膜パターンの形成方法。
IPC (5件):
C23C 14/26 ,  C23C 14/12 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/12 ,  H05B 33/14
FI (5件):
C23C 14/26 A ,  C23C 14/12 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/12 B ,  H05B 33/14 A
Fターム (17件):
3K007AB04 ,  3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007CA06 ,  3K007CB01 ,  3K007DA01 ,  3K007DB03 ,  3K007EB00 ,  3K007FA01 ,  4K029AA11 ,  4K029AA24 ,  4K029BA62 ,  4K029BB03 ,  4K029BC07 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029DB14
引用特許:
審査官引用 (4件)
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