特許
J-GLOBAL ID:200903077732765067

ガス分離膜とその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 萩原 亮一 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-136245
公開番号(公開出願番号):特開平11-319521
出願日: 1998年05月19日
公開日(公表日): 1999年11月24日
要約:
【要約】【課題】 薄膜化されているが強度の高いメンブレンリアクター用に適する水素分離膜を提供すること。【解決手段】 多孔質基体上に積層された少なくとも一つのガス分離層を有し、該ガス分離層は薄膜化されたことを特徴とするガス分離膜。
請求項(抜粋):
多孔質基体上に積層された少なくとも一つのガス分離層を有し、該ガス分離層は薄膜化されたことを特徴とするガス分離膜。
IPC (3件):
B01D 71/02 500 ,  C04B 41/85 ,  C10K 3/00
FI (3件):
B01D 71/02 500 ,  C04B 41/85 C ,  C10K 3/00
引用特許:
審査官引用 (14件)
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