特許
J-GLOBAL ID：200903077811066204
ウエハ、ウエハ-キャリヤ構造体の特に薄い背面を処理する方法及び前記タイプのウエハ-キャリヤ構造体を製造する方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
熊倉 禎男
, 小川 信夫
, 箱田 篤
, 浅井 賢治
, 平山 孝二
, 新谷 雅史
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-556786
公開番号（公開出願番号）：特表2009-528688
出願日： 2007年03月01日
公開日（公表日）： 2009年08月06日
要約：
本発明は、ウエハ(1)と、キャリヤ層システム(5、6)と、キャリヤ層システム(5、6)とウエハ(1)との間に配置されている分離層(4)とを備えるウエハ-キャリヤ構造体に関する。キャリヤ層システム(5、6)は、i)キャリヤ層(6)とii)分離層面に、硬化した、部分的に硬化した又は硬化性のエラストマー材料から製造された層とを備えるか、或いはこれらの双方の層からなる。分離層(4)は、(iii)プラズマポリマー層であり、(iv)キャリヤ層システム(5、6)とエラストマー材料の硬化による分離層(4)と間の接着強度は、ウエハ(1)と分離層(4)との間の接着強度より大きい。
請求項（抜粋）：
- ウエハ(1)と、
- 支持層システム(5、6)と、
- 支持層システム(5、6)とウエハ(1)との間に配置されている分離層(4)と
を備えるウエハ支持構造体であって、
支持層システム(5、6)が
(i) 支持層(6)と、
(ii) 分離層面に完全に硬化された、部分的に硬化された又は硬化性エラストマー材料の層(5)とを備えるか、或いはこれらの二つの層からなり、
分離層(4)が
(iii) プラズマポリマー層であり、
(iv) エラストマー材料が完全に硬化された後の支持層システム(5、6)と分離層(4)との間の接着結合がウエハ(1)と分離層(4)との間の接着結合より大きい、
前記ウエハ支持構造体。
IPC (3件)：
H01L 21/683
, H01L 21/304
, B24B 41/06
H01L21/68 N
, H01L21/304 622J
, B24B41/06 L
3C034AA13
, 3C034BB73
, 5F031CA02
, 5F031DA15
, 5F031HA78
, 5F031MA22
, 5F031MA37
