特許
J-GLOBAL ID：200903077868146913
回折光学素子の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-332057
公開番号（公開出願番号）：特開2000-147228
出願日： 1998年11月05日
公開日（公表日）： 2000年05月26日
要約：
【要約】【課題】 安価な高分子材料を用い、比較的簡単な装置により製造が可能な、必要とする程度の光学特性を有する回折光学素子を作成する。【解決手段】 レーザ装置1からのレーザ光2は、ガルバノミラー3、fθミラー4、あるいは反射ミラー、マスク等を介し、空間的に選択的にステージ5上に設置された高分子基板6上に照射される。レーザ光のエネルギを調整し、照射された高分子基板表面を熱的あるいは光化学的作用により変化させ微細形状を形成する。空間的に選択的にレーザ光を照射するには、スリット型に作成したフォトマスクの像を結像させて照射するか、あるいはビームを走査するなどして行う。また、ステージ5の周期的移動により照射位置を変え、レーザ加工により基板表面に微細形状を形成することもできる。
請求項（抜粋）：
レーザ装置と、空間的に選択的にレーザを照射する手段により構成され、レーザ光により高分子材料の一部に微細構造を形成し、材料の光学特性を変化させることを特徴とする回折光学素子の製造方法。
Fターム (4件)：
2H049AA03
, 2H049AA33
, 2H049AA63
, 2H049AA64
