特許
J-GLOBAL ID:200903078025215774
画像形成方法
発明者:
,
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
世良 和信
, 川口 嘉之
, 和久田 純一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-108728
公開番号(公開出願番号):特開2006-285145
出願日: 2005年04月05日
公開日(公表日): 2006年10月19日
要約:
【課題】画像流れ、トナー融着が発生せず、安定した画像濃度が得られる画像形成方法を提供すること。【解決手段】帯電工程、潜像形成工程、反転現像法による現像工程、転写工程、分離工程、クリーニング工程を有する画像形成方法において、感光体は、導電性基体と導電性基体上にアモルファスシリコンを含む光導電層及びアモルファスシリコン及び/またはアモルファスカーボンを含む表面保護層を備えたものであり、トナーは、結着樹脂及び着色剤を含有するトナー粒子と、粒子形状が立方体または直方体であるペロブスカイト型結晶であり個数平均粒子径が80nm以上300nm未満である無機微粉体A及び個数平均粒径が300nm以上3000nm未満である無機微粉体Bを含有する、画像形成方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
感光体表面を帯電する帯電工程、露光により該感光体上に静電潜像を形成する潜像形成工程、該静電潜像を反転現像法によりトナーで現像してトナー像を形成する現像工程、転写材に該トナー像を静電転写させる転写工程、該転写材と感光体を分離させる分離工程、転写工程後に感光体上に残った転写残余トナーをクリーニング部材にて感光体上から除去するクリーニング工程を有する画像形成方法において、
該感光体は、導電性基体と該導電性基体上に少なくともアモルファスシリコンを含む光導電層及びアモルファスシリコン及び/またはアモルファスカーボンを含む表面保護層を備えたものであり、
該トナーは、少なくとも結着樹脂及び着色剤を含有するトナー粒子と、少なくとも粒子形状が立方体または直方体であるペロブスカイト型結晶であり個数平均粒子径が80nm以上300nm未満である無機微粉体A及び個数平均粒径が300nm以上3000nm未満である無機微粉体Bを含有することを特徴とする、画像形成方法。
IPC (4件):
G03G 9/08
, G03G 5/08
, G03G 15/16
, G03G 9/087
FI (7件):
G03G9/08 374
, G03G9/08
, G03G5/08 301
, G03G5/08 308
, G03G5/08 311
, G03G15/16
, G03G9/08 325
Fターム (36件):
2H005AA01
, 2H005AA08
, 2H005CA04
, 2H005CB08
, 2H005EA05
, 2H005EA07
, 2H005EA10
, 2H068CA03
, 2H068DA03
, 2H068DA23
, 2H068FA16
, 2H068FC02
, 2H068FC11
, 2H200FA04
, 2H200GA13
, 2H200GA18
, 2H200GA23
, 2H200GA46
, 2H200GA59
, 2H200GB12
, 2H200GB22
, 2H200HA12
, 2H200HA28
, 2H200HB02
, 2H200HB12
, 2H200HB33
, 2H200JA02
, 2H200JB06
, 2H200JB16
, 2H200LA07
, 2H200LA12
, 2H200LA15
, 2H200LA17
, 2H200LA23
, 2H200LA27
, 2H200LA30
引用特許:
出願人引用 (10件)
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特公平06-12461号公報
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特開平2-110475号公報
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特公平2-110475号公報
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トナーおよび画像形成装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-290825
出願人:キヤノン株式会社
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特許3047900号公報
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特許3385860号公報
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特許2568244号公報
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現像剤、画像形成方法及び画像形成装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-355913
出願人:キヤノン株式会社
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画像形成装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-045842
出願人:キヤノン株式会社
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トナー
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-219707
出願人:キヤノン株式会社
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審査官引用 (3件)
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現像剤、画像形成方法及び画像形成装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-355913
出願人:キヤノン株式会社
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画像形成装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-045842
出願人:キヤノン株式会社
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トナー
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-219707
出願人:キヤノン株式会社
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