特許
J-GLOBAL ID：200903078034575511
化学増幅ポジ型レジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岩橋 和幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-322973
公開番号（公開出願番号）：特開2006-178423
出願日： 2005年11月08日
公開日（公表日）： 2006年07月06日
要約：
【課題】本発明の目的は、高解像性、高感度等の優れた特性を有するマイクロマシン分野のマスク材、またはマイクロマシン分野、半導体パッケージ、プリント基板分野のめっきモールド等の用途に有用である化学増幅ポジ型レジスト組成物を提供することにある。【解決手段】本発明は、(A)一般式(I)[式中、R1、R2およびR3は、同一または異なって、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアリール等を表し、Xは、OまたはNR(式中、Rは、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換のアラルキルを表す)を表す]で表される基を有する重合体、(B)放射線の照射により酸を発生する化合物および(C)有機溶剤を含有することを特徴とする、膜厚5〜150μmのレジストを形成する化学増幅ポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(A)一般式(I)
IPC (4件)：
G03F 7/039
, G03F 7/004
, G03F 7/38
, B81B 1/00
G03F7/039 601
, G03F7/004 501
, G03F7/38
, B81B1/00
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AB15
, 2H025AB16
, 2H025AB17
, 2H025AB20
, 2H025AC01
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BG00
, 2H025CC03
, 2H025CC20
, 2H025EA10
, 2H025FA12
, 2H096AA25
, 2H096AA26
, 2H096AA30
, 2H096BA11
, 2H096BA20
, 2H096CA20
, 2H096EA02
, 2H096FA01
, 2H096GA08
