特許
J-GLOBAL ID：200903078076533606

水処理装置およびこれを備えた水処理システム

発明者：
上原 勝

上原 勝 について

, 
松井 克明

松井 克明 について


出願人/特許権者：
三菱レイヨン株式会社

三菱レイヨン株式会社 について


代理人 (1件)： 志賀 正武 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-108479
公開番号（公開出願番号）：特開2001-286888
出願日： 2000年04月10日
公開日（公表日）： 2001年10月16日
要約：
【要約】【課題】 好気処理と嫌気処理からなる生物学的処理を一槽で行うことができ、同時に膜分離も行うことのできる水処理装置およびこれを備えた水処理システムを提供する。【解決手段】 原水を固液分離するととともに、原水中の汚染物を生物学的に処理する水処理装置であり、分離槽11と、分離槽11内に備えられた分離膜モジュールと、分離膜モジュールの下方の分離槽11内に備えられ、上方に向けて気体を発生する散気手段とを有し、散気手段の下方の分離槽11内には、さらに炭素繊維ユニット13が備えられている水処理装置を使用する。炭素繊維ユニット13を分離槽11下部の嫌気雰囲気中に設けることによって、嫌気性細菌を炭素繊維表面に吸着し、効率的に嫌気処理を行うことができる。好気処理は分離槽11の上部で行う。
請求項（抜粋）：
原水を固液分離するととともに、原水中の汚染物を生物学的に処理する水処理装置であり、分離槽と、分離槽内に備えられた分離膜モジュールと、分離膜モジュールの下方の分離槽内に備えられ、上方に向けて酸素含有気体を発生する散気手段とを有し、散気手段の下方の分離槽内には、さらに炭素繊維ユニットが備えられていることを特徴とする水処理装置。
IPC (5件)：
C02F 3/30 ZAB ,  C02F 3/30 ,  B01D 65/02 520 ,  C02F 1/44 ,  C02F 3/12
FI (5件)：
C02F 3/30 ZAB A ,  C02F 3/30 B ,  B01D 65/02 520 ,  C02F 1/44 A ,  C02F 3/12 S
Fターム (43件)：
4D006GA07 ,  4D006HA03 ,  4D006HA15 ,  4D006HA19 ,  4D006HA21 ,  4D006HA41 ,  4D006HA93 ,  4D006JA02B ,  4D006JA67A ,  4D006KA01 ,  4D006KA02 ,  4D006KA44 ,  4D006KA63 ,  4D006KB14 ,  4D006KB22 ,  4D006KB23 ,  4D006KB25 ,  4D006KC03 ,  4D006KC16 ,  4D006KD24 ,  4D006MA01 ,  4D006MA22 ,  4D006MA24 ,  4D006MA31 ,  4D006MA33 ,  4D006MC11 ,  4D006MC22 ,  4D006MC33 ,  4D006MC36 ,  4D006MC62 ,  4D006PA01 ,  4D006PB04 ,  4D006PB08 ,  4D006PB24 ,  4D006PC62 ,  4D028AA08 ,  4D028AB00 ,  4D028BC01 ,  4D028BC17 ,  4D028BD17 ,  4D040BB63 ,  4D040BB64 ,  4D040BB82
引用特許：
審査官引用 (17件)
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